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真空快速退火爐AS-Micro
AS-Micro是一款適用于實(shí)驗(yàn)室研究的真空快速退火爐,性能**。
可處理從幾平方毫米到3英寸直徑或正方形的基板。
可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。
**溫度1250 ℃,*快升溫速率250℃/Second。
全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準(zhǔn)確。
擁有雙腔室,避免交叉污染。
應(yīng)用:
•快速熱退火
•植入退火
•歐姆接觸退火
•快速熱氧化(RTO)
•快速熱氮化(RTN)
•石墨烯快速熱化學(xué)氣相沉積
產(chǎn)品特點(diǎn):
1、紅外鹵素?zé)艄芗訜?,冷卻采用風(fēng)冷(低噪音水平,無需壓縮空氣);
2、加熱由功率控制而非電壓控制,避免了由于燈絲老化電阻改變導(dǎo)致的后續(xù)使用中加熱不均的問題,保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性,即使在后續(xù)使用過程中更換了部分新的燈管也可以達(dá)到*初的熱處理效果;
3、石英腔體,腔體冷卻采用水冷,冷壁設(shè)計(jì),雙層不銹鋼;
冷壁水冷技術(shù)優(yōu)點(diǎn)在于:1、無記憶,2、工藝重復(fù)性高,3、冷卻速度快;
4、反應(yīng)腔室的設(shè)計(jì),氣體的進(jìn)入口設(shè)計(jì)在wafer的表面,避免在退火過程中冷點(diǎn)的產(chǎn)生。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性;
5、快速數(shù)字PID控溫;
6、熱電偶設(shè)計(jì)上采用中間和邊緣安裝模式,測試的樣品的溫度,控溫精準(zhǔn);
7、大氣和真空工藝均適合,凈化氣體配針閥;
8、*多3工藝氣體,配數(shù)字質(zhì)量流量控制器;
9、電腦通過以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度;
10、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設(shè)計(jì),用于小樣品測試;
11、可選配分子泵,用于高真空測試;
12、可選配雙腔體設(shè)計(jì), 達(dá)到高潔凈工藝,避免交叉污染。
產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)配置及規(guī)格參數(shù):
1、樣品**尺寸:3-inch;
2、溫度范圍:室溫~1250 ℃;
3、升溫速率:0.1 ℃~250 ℃/s ;
4、溫度控制:快速數(shù)字PID控制;
5、熱電偶:2N型熱電偶;
6、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計(jì);
7、配置真空泵及真空規(guī):
8、樣品腔室尺寸(單室):700*700*700mm (W*D*H);凈重82Kg;
樣品腔室尺寸(雙室):700*700*1825mm (W*D*H;凈重142Kg;
暫無數(shù)據(jù)!