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真空提純爐可用于碳納米管料的連續(xù)式高溫石墨化提純，并可實(shí)現(xiàn)高溫法與化學(xué)法相結(jié)合的提純處理。適用于新能源汽車(chē)、半導(dǎo)體、新材料等等多種領(lǐng)域。

真空提純爐的用途：

      適用于電池負(fù)極材料、電子陶瓷、玻璃、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、石墨烯、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)。

真空提純爐的特點(diǎn)：

　　可用于石墨粉料的連續(xù)式高溫石墨化提純，并可實(shí)現(xiàn)高溫法與化學(xué)法相結(jié)合的提純處理。

　　可實(shí)現(xiàn)高溫下連續(xù)式進(jìn)料和出料，減少了能源消耗，縮短生產(chǎn)周期；

　　采用電阻或感應(yīng)加熱，溫度可達(dá)2850℃以上；

　　采用高溫法和化學(xué)法相結(jié)合的提純方式，可滿(mǎn)足高純度處理要求；

　　采用高效的過(guò)濾系統(tǒng)，能有效捕集提純過(guò)程中產(chǎn)生的粉塵、腐蝕性氣體等；

       可實(shí)現(xiàn)高溫下連續(xù)式進(jìn)料和出料，減少了能源消耗，縮短生產(chǎn)周期。

真空提純爐的技術(shù)參數(shù)：