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Q150T系列模塊化鍍膜系統(tǒng)_專為SEM、TEM及薄膜應(yīng)用設(shè)計的高真空濺射和蒸發(fā)鍍膜儀

Q150T系列：渦輪泵高真空鍍膜儀，可進行高性能精細顆粒鍍膜，適合場發(fā)射電鏡制樣應(yīng)用以及制作無定形碳覆形膜及TEM柵網(wǎng)支持膜?；趦?nèi)部安裝的渦輪分子泵抽真空平臺，Q150T具有三種版本/型號的鍍膜儀：濺射、蒸發(fā)鍍碳和濺射/蒸鍍。在運用新科技整體成型的機箱上，設(shè)有彩色觸摸屏，可允許多用戶輸入和貯存鍍膜方案。在同一個易使用系統(tǒng)中，根據(jù)所選擇的配置，Q150T可以是一臺高水準的離子濺射鍍膜儀用于高分辨掃描電鏡（SEM）制樣，也可以是一臺適合SEM或透射電鏡（TEM）應(yīng)用的蒸發(fā)鍍碳儀，或者是一臺兼具濺射和蒸鍍兩功能的一體化鍍膜儀。Q150T具有快速濺射易氧化和不氧化金屬靶材的寬可選范圍的能力，使其也成為許多金屬薄膜研究及電極的應(yīng)用等材料科學(xué)領(lǐng)域的一個理想鍍膜平臺。

高真空性能

Q150T裝在一個堅固的特制整體成型機殼中，它容納了所有工作部件，包括空氣冷卻的渦輪分子泵。自動進氣控制保證了濺射期間佳的真空條件。真空腔室?guī)в蟹辣踩帧150T含有的真空閉鎖功能允許在不用設(shè)備時維持腔室真空，從而改善真空性能。

Q150T系列三種型號

Q150TS：高分辨率磁控離子濺射鍍膜儀，可濺射易氧化及不氧化金屬（貴金屬）?？蛇x各種濺射靶材，包括常用于場發(fā)射電鏡的銥和鉻。

Q150TE：高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀，可制作高穩(wěn)定性的碳膜和表面覆形膜，對透射電鏡（TEM）的應(yīng)用非常理想。

Q150TES：集合了濺射和蒸鍍兩種沉積鍍膜功能的鍍膜系統(tǒng)，沉積鍍膜頭可在數(shù)秒內(nèi)快速更換，智能邏輯系統(tǒng)自動識別出所裝的鍍膜頭類型，并顯示相應(yīng)的操作設(shè)置。

上述每個型號還可選配一系列可選附件，如：金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等。

觸摸屏控制

Q150T的操作核心為簡單的觸摸屏，即使不熟練的或偶而使用的操作者，儀器也能使其快速鍵入和貯存自己的處理數(shù)據(jù)。程序中已貯存了各種典型濺射及蒸發(fā)鍍膜的參數(shù)資料，以便提供進一步的易操作幫助。

鍍膜頭選項

具有一系列可互換、即插即用的鍍膜頭：

濺射頭，可使用易氧化及非氧化金屬兩大類寬范圍靶材；并可用另外的濺射頭來快速更換鍍膜材料（僅為TS及TES版本）

碳棒蒸發(fā)頭

碳絲蒸發(fā)頭

金屬蒸發(fā)/光闌清潔頭，包括向上蒸發(fā)或向下蒸發(fā)兩種蒸發(fā)方式（僅為TE和TES版本）

樣品臺選項

Q150T具有各種樣品臺以滿足大部分的應(yīng)用。所有的樣品臺更換容易，drop-in式樣（無需螺釘）并且高度可調(diào)（除旋轉(zhuǎn)行星臺）。標準配置為旋轉(zhuǎn)臺，可選：

可預(yù)設(shè)傾斜角度的旋轉(zhuǎn)臺

可變角度旋轉(zhuǎn)行星臺

用于晶圓的平面旋轉(zhuǎn)臺

用于顯微鏡載玻片的樣品臺

其它選項

用于高樣品的加高腔室

膜厚監(jiān)測附件（FTM）

用于測量低和高真空的全范圍真空計

Q150T系列全自動高真空離子濺射/熱蒸發(fā)一體化鍍膜儀給用戶以類似傻瓜相機的簡單操作、專業(yè)級的鍍膜質(zhì)量和對熟手/新手都很理想的用戶界面，讓用戶真正領(lǐng)略****的鍍膜品質(zhì)！

技術(shù)參數(shù)：

● 工作腔室：150mm內(nèi)徑 x 127mm高

● 觸摸屏全圖像用戶界面

● 樣品臺：標配旋轉(zhuǎn)臺

● 真空系統(tǒng)：

渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵

旋轉(zhuǎn)機械泵：雙級旋轉(zhuǎn)機械泵

● 濺射電流：0-150mA；可預(yù)設(shè)膜厚（需FTM選項）或使用內(nèi)置定時器

● 濺射時間：長60分鐘

● 碳蒸發(fā)：穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā)，確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳。

● 金屬蒸發(fā)/光闌清潔頭：用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發(fā)。

● 尺寸和重量：儀器機箱：585mm寬x 470mm長 x 410mm高 (總高: 650mm)

● 儀器總重量：33.4Kg

主要特點：

● 金屬濺射或碳蒸發(fā)或兩者兼?zhèn)洌阂惑w化設(shè)計，節(jié)約空間

● 精細顆粒濺射：高分辨率場發(fā)射掃描電鏡（FE-SEM）制樣的精細鍍膜應(yīng)用

● 渦輪分子泵高真空系統(tǒng)：允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜，大大拓寬了可濺射靶材范圍，既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應(yīng)用，也為許多薄膜應(yīng)用等材料科研領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺

● 全自動觸摸屏控制：快速數(shù)據(jù)輸入，簡單操作

● 可儲存多個客戶自定義鍍膜方案：對多用戶實驗室十分理想

● 與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預(yù)編程自動真空控制

● 精細的厚度控制：使用膜厚監(jiān)控選項

● 智能邏輯系統(tǒng)識別：自動感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型

● 高真空碳蒸鍍：對SEM和TEM鍍碳膜應(yīng)用非常理想

● 蒸發(fā)電流波形控制

● Drop-in落入式快換樣品臺（標配旋轉(zhuǎn)臺）

● 真空閉鎖功能：可讓工作腔室處于真空狀態(tài)，改善后續(xù)真空效果，或在真空條件下保存樣品

● 鍍制厚膜能力：一次真空條件下的濺射時間可長達60分鐘（材料科研領(lǐng)域的應(yīng)用）

● 人體工程學(xué)設(shè)計的整體成型機殼：易維護和易拆裝

● 帶有本地FTP服務(wù)器連接的以太網(wǎng)端口：簡單的程序更新

● 設(shè)有功率因素補償，有效利用電能，降低運行成本

● 符合當前電器法規(guī)（CE認證）