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美國(guó)NANOVEA三維表面形貌儀HS1000型

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

HS1000型三維表面形貌儀是一款高速的三維形貌儀，**掃描速度可達(dá)1m/s，采用國(guó)際**的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試，具有測(cè)量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)使用。

產(chǎn)品特性

采用白光共聚焦色差技術(shù)，可獲得納米級(jí)的分辨率

測(cè)量具有非破壞性，測(cè)量速度快，精確度高

測(cè)量范圍廣，可測(cè)透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)；

尤其適合測(cè)量高坡度高曲折度的材料表面

不受樣品反射率的影響

不受環(huán)境光的影響

測(cè)量簡(jiǎn)單，樣品無(wú)需特殊處理

Z方向，測(cè)量范圍大：為27mm

主要技術(shù)參數(shù)

掃描范圍：400mm×600mm(**可選600mm*600mm)

掃描步長(zhǎng)：5nm

掃描速度：1m/s

Z方向測(cè)量范圍：27mm

方向測(cè)量分辨率：2nm

產(chǎn)品應(yīng)用

MEMS、半導(dǎo)體材料、太陽(yáng)能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料，光學(xué)元件、陶瓷和先進(jìn)材料的研發(fā)

主要用于

--生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)三維形貌測(cè)試的理想選擇

--高速三維表面形貌檢測(cè)

美國(guó)NANOVEA HS1000型三維表面形貌儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

HS1000型三維表面形貌儀是一款高速的三維形貌儀，**掃描速度可達(dá)1m/s，采用國(guó)際**的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試，具有測(cè)量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)使用。

產(chǎn)品特性

采用白光共聚焦色差技術(shù)，可獲得納米級(jí)的分辨率

測(cè)量具有非破壞性，測(cè)量速度快，精確度高

測(cè)量范圍廣，可測(cè)透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)；

尤其適合測(cè)量高坡度高曲折度的材料表面

不受樣品反射率的影響

不受環(huán)境光的影響

測(cè)量簡(jiǎn)單，樣品無(wú)需特殊處理

Z方向，測(cè)量范圍大：為27mm

主要技術(shù)參數(shù)

掃描范圍：400mm×600mm(**可選600mm*600mm)

掃描步長(zhǎng)：5nm

掃描速度：1m/s

Z方向測(cè)量范圍：27mm

方向測(cè)量分辨率：2nm

產(chǎn)品應(yīng)用

MEMS、半導(dǎo)體材料、太陽(yáng)能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料，光學(xué)元件、陶瓷和先進(jìn)材料的研發(fā)

主要用于

--生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)三維形貌測(cè)試的理想選擇

--高速三維表面形貌檢測(cè)