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            馬爾文帕納科
            Malvern Panalytical

            馬爾文帕納科

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            【10.14主題日】微觀丈量,“膜”力無限 —— 薄膜測量專題網(wǎng)絡研討會

            【10.14主題日】微觀丈量,“膜”力無限 —— 薄膜測量專題網(wǎng)絡研討會
            馬爾文帕納科  2022-10-14  |  閱讀:1167

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            薄膜測量主題網(wǎng)絡研討會

            薄膜通常是指形成于基底之上厚度在一微米或幾微米以下的固態(tài)材料。隨著沉積工藝的進步,薄膜材料的的功能性不斷被開發(fā)利用,越來越多的應用于不同的工業(yè)領域,譬如半導體、光學器件、汽車、新能源等諸多行業(yè)。

            沉積工藝決定了薄膜的成分和結構,最終影響薄膜的物理性能。馬爾文帕納科的X射線分析儀器可以對不同類型的薄膜材料進行表征,幫助客戶獲取薄膜成分、厚度、微結構、取向等關鍵信息,幫助研究者優(yōu)化或控制工藝參數(shù),以改善薄膜材料的性能。

            10月14日(周五),馬爾文帕納科將與儀器信息網(wǎng)聯(lián)合推出主題為“微觀丈量,‘膜’力無限——X射線分析技術應用于薄膜測量”的專題網(wǎng)絡研討會。活動將特邀同濟大學物理科學與工程學院朱京濤教授,馬爾文帕納科亞太區(qū)半導體行業(yè)經理鐘明光先生,以及馬爾文帕納科XRD產品經理王林博士,XRF產品經理熊佳星先生做薄膜測量應用的相關報告,內容涉及多晶薄膜反射、織構、應力;半導體薄膜測量以及涂層、鍍層等金屬薄膜的成分及結構鑒定。還將安排幾款用于薄膜測量的X射線分析儀器的視頻演示。期待與涉及薄膜測量方向的廣大科研工作者和企業(yè)研發(fā)、質控專業(yè)人員共同探討薄膜測量領域X射線分析技術的發(fā)展及應用。

            活動日程

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            朱京濤 博士,教授,博士生導師,畢業(yè)于復旦大學物理系,主要從事微納光學、薄膜光學與技術研究。作為項目負責人,已完成國家自然科學基金重點項目1項,面上項目6項,國際合作交流項目1項,重大專項1項,軍口重大專項5項,軍口配套課題十余項,在國際刊物上共發(fā)表學術論文140余篇,國際學術會議邀請報告6次。獲得上海市技術發(fā)明二等獎和軍隊科技進步三等獎各一項。為我國重大科學裝置研制極紫外、軟X射線與X射線波段納米薄膜器件,并實現(xiàn)進口替代和產業(yè)化。

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            王  林博士,馬爾文帕納科中國區(qū)XRD產品經理。2004年畢業(yè)于清華大學物理系獲學士學位,2011年于澳大利亞University of Wollongong伍倫貢大學獲得博士學位,博士期間研究方向為超導薄膜材料。畢業(yè)后即加入帕納科公司,從事XRD應用研究及技術支持等工作。

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            鐘明光先生,馬爾文帕納科亞太區(qū)半導體行業(yè)經理,北維吉尼亞大學工程碩士,曾任臺灣明志科技大學及臺灣東海大學 X-Ray專題講師。在馬爾文帕納科任職超過20年,一直從事半導體行業(yè)分析設備的應用與研究,發(fā)表多篇 X-Ray 應用于SiGe材料的分析技術文章,精通X射線衍射及X射線熒光在第一代、第二代及第三代半導體材料領域的分析技術。

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            熊佳星先生,馬爾文帕納科中國區(qū)XRF產品經理。2010年畢業(yè)于中國科學技術大學,化學物理專業(yè)碩士;2012年加入荷蘭帕納科公司,負責其在中國XRF產品的應用開發(fā)及支持工作,后擔任產品經理,負責XRF產品線。

            薄膜測量相關產品介紹

            高分辨 X 射線衍射儀

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            X'Pert3 MRD/XL


            馬爾文帕納科新一代X'Pert3 MRD(XL)高分辨X射線衍射儀,專為薄膜分析打造,具有全新編碼定位技術測角儀,PreFIX預校準光路系統(tǒng),適用高負載條件的歐拉環(huán)樣品臺,允許裝載200mm-300mm的晶圓,PIXcel3D探測器實現(xiàn)高動態(tài)范圍的測量,靈活切換0D-1D-2D靜態(tài)及掃描模式。性能的改進大大增強其可靠性,進一步提高了分析能力。可提供一體化解決方案來滿足不同需求和應用:

            半導體和單晶晶圓:倒易空間探索、搖擺曲線分析

            多晶固體和薄膜:織構分析、反射測量

            超薄薄膜、納米材料和非晶層:掠入射物相鑒定、面內衍射

            非常溫條件下的測量:隨溫度和時間變化的峰高

            多功能 X 射線衍射系統(tǒng)

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            Empyrean 銳影

            Empyrean銳影多功能X射線衍射系統(tǒng)具有在一臺儀器上測量多種類樣品的能力,無論是粉末、薄膜還是納米材料與固體物質。作為馬爾文帕納科第三代Empyrean銳影,具有智能“MaltiCore”多核光路系統(tǒng),無需人工干預即可實現(xiàn)多種類的不同測量。外延薄膜分析中,Empyrean銳影可以放置最大140mm的晶圓,對2英寸的晶圓和晶圓碎片進行完整XY Mapping。在薄膜分析領域的應用還包括:

            物相鑒定(和深度剖析)

            X射線反射

            薄膜應力分析

            織構分析

            In-plane衍射

            外延層分析

            倒易空間Mapping

            非常溫環(huán)境條件下測量

            多功能臺式XRD

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            Aeris 

            Aeris臺式X射線衍射儀具有大功率系統(tǒng)上才能實現(xiàn)的數(shù)據(jù)質量和數(shù)據(jù)采集速度。外置進樣系統(tǒng),易于使用,方便環(huán)保。無需外置水冷、占地面積小,節(jié)約實驗室空間。新一代Aeris,還可配置掠入射薄膜分析功能模塊。

            圓晶分析儀

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            2830ZT 

            2830ZT波長色散X射線熒光圓晶分析儀提供了用于測量薄膜厚度和成分的功能。針對半導體和數(shù)據(jù)存儲行業(yè)而設計,專門配備了具有突破性的ZETA技術X射線管,和多層膜分析軟件FP Multi,F(xiàn)ALMO-2G可集成到任意實驗室或晶圓廠,該儀器可為多種晶片(厚達300mm)測定層結構、厚度、摻雜都和表面均勻性。

            波長色散X射線熒光光譜儀

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            Zetium X射線熒光光譜儀


            Zetium光譜儀金屬專業(yè)版提供了一個完整的專用工具,可用于分析金屬制造所需的原材料以及特定的金屬解決方案,滿足過程控制的苛刻分析要求。這是通過提供專用解決方案,融合優(yōu)化硬件、內置專業(yè)知識模板實現(xiàn)的,并可根據(jù)要求定制。軟件中可添加Stratos涂層分析軟件,完成對涂層、表面層的多層結構進行快速、簡單和非破壞性的分析。

            臺式能量色散X射線熒光光譜儀

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            Epsilon 4 

            Epsilon 4臺式XRF分析儀,廣泛用于從研發(fā)到流程控制等各個領域中需要從氟(F)到镅(Am)元素分析的行業(yè)細分市場。Epsilon4將激發(fā)和檢測技術與成熟軟件和智能設計相結合,其分析性能更接近于功率更高的落地式XRF光譜儀。

            Malvern Panalytical

            Malvern Panalytical ,馬爾文帕納科的使命是通過對材料進行化學、物理和結構分析,打造出客戶導向型創(chuàng)新解決方案和服務,從而提高效率和產生切實的經濟影響。通過利用包括人工智能和預測分析在內的最近技術發(fā)展,我們能夠逐步實現(xiàn)這一目標。這將讓各個行業(yè)和組織的科學家和工程師可解決一系列難題,如最大程度地提高生產率、開發(fā)更高質量的產品及幫助產品更快速地上市。

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