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            激光拋光和CMP技術(shù)是未來金剛石表面拋光技術(shù)發(fā)展的重點——訪廣東工業(yè)大學(xué)路家斌教授


            來源:中國粉體網(wǎng)   喬木

            [導(dǎo)讀]  本期為您分享的是中國粉體網(wǎng)對廣東工業(yè)大學(xué)路家斌教授

            中國粉體網(wǎng)訊  2024年12月24日,由中國粉體網(wǎng)主辦的“2024半導(dǎo)體行業(yè)用金剛石材料技術(shù)大會”在河南鄭州濱河假日酒店隆重召開。會議期間,我們邀請到多位業(yè)內(nèi)專家學(xué)者做客“對話”欄目,就金剛石材料在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用進展以及技術(shù)現(xiàn)狀進行了訪談交流。本期為您分享的是中國粉體網(wǎng)對廣東工業(yè)大學(xué)路家斌教授的專訪。



            廣東工業(yè)大學(xué)路家斌教授


            粉體網(wǎng):路教授,首先請您介紹一下您的研究方向。


            路教授:最近十年來,我主要研究的是半導(dǎo)體材料的超精密加工,尤其是針對第三代半導(dǎo)體(碳化硅、氮化鎵等)和第四代半導(dǎo)體(氧化鎵、金剛石等)的研磨拋光的方法、工藝和耗材。在制造過程中,由于研磨拋光工藝、操作等相對直觀且容易被模仿,所以目前我們更多是想開發(fā)一些研磨拋光耗材,比如做成固相反應(yīng)的研磨盤、拋光盤、拋光墊或拋光液等。


            粉體網(wǎng):目前金剛石的表面超精密拋光技術(shù)有哪些?


            路教授:由于金剛石的硬度非常高,所以加工難度非常大,目前加工金剛石的方法很多,包括從傳統(tǒng)的機械拋光、砂輪拋光到現(xiàn)在CMP技術(shù)等。從原理的角度來說,金剛石的加工方法主要分為兩類:


            一類是通過直接輸入能量的方式,打破金剛石的C-C共價鍵來實現(xiàn)材料去除,如機械拋光是通過直接輸入機械能的方式使C-C鍵發(fā)生破裂;而激光加工則是通過輸入激光能量的方式。直接輸入能量方法的最大優(yōu)點是效率非常高,缺點就是損傷會比較大,比如,機械拋光可能會產(chǎn)生一些機械損傷,而激光拋光會產(chǎn)生一些熱損傷。


            另外一種方法是采用CMP拋光,也就是以化學(xué)反應(yīng)的方式來進行拋光。最典型就是CMP,除此之外,摩擦化學(xué)通過高溫摩擦產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),還有等離子體拋光等這些方法。


            粉體網(wǎng):激光誘導(dǎo)石墨化輔助CMP拋光方法是如何拋光單晶金剛石的?涉及的原理又是什么?


            路教授:激光誘導(dǎo)石墨化輔助CMP拋光方法準確來說是采取兩個步驟來實現(xiàn)金剛石的拋光。


            激光誘導(dǎo)石墨化部分通過直接通過輸入能量的方式來對金剛石進行材料去除,這個部分主要用于粗拋光。這種方法的優(yōu)勢在于效率非常高,但是很難讓它表面粗糙度達到原子級的精度。


            目前我們激光單次加工效果最好的是50nm,未來我的目標是想通過激光誘導(dǎo)石墨化能夠達到10nm左右。


            激光誘導(dǎo)石墨化最大的優(yōu)點就是可以快速地進行整平,假設(shè)一個粗糙不平的金剛石,如果一開始就完全用CMP拋光或研磨去把它整平的話,不僅難度極大,而且效率也非常低。


            但是通過激光誘導(dǎo)石墨化之后,就可以快速地對其進行粗加工,達到整平并且控制損傷,最后再采用CMP拋光的方式進行精拋光,進一步降低粗糙度和減少損傷層。對于金剛石的CMP拋光,我們也研究多種原理的化學(xué)反應(yīng),最后選擇利用紫外光催化和芬頓反應(yīng)的協(xié)同作用來顯著提高強氧化性的羥基自由基(•OH)濃度,從而增強金剛石的化學(xué)反應(yīng),達到提高拋光效率的目的,實現(xiàn)金剛石的高效率、高精度拋光。


            實際上,在金剛石的激光誘導(dǎo)石墨化和CMP拋光中還存在協(xié)同問題,激光誘導(dǎo)石墨化后會產(chǎn)生熱損傷,著有可能會加快后期CMP的化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生協(xié)同作用。關(guān)于這方面的問題,目前我們還在進一步研究中。


            粉體網(wǎng):在您看來,未來金剛石表面拋光技術(shù)發(fā)展的重點是什么?


            路教授:最主要的還是降低加工成本。首先從成本角度來說,激光加工是一個非常有前途的方法,但激光加工后的最終粗糙度很難降低是需要關(guān)注的問題,未來還需要進一步研究如何優(yōu)化激光加工,進一步降低粗糙度。其次,我認為CMP仍然是目前最重要也是關(guān)鍵的拋光工藝,要進一步大力發(fā)展,因為最終要達到原子級的粗糙度,甚至是實現(xiàn)無表面或者亞表面損傷,都必須最后要用到CMP。未來,這兩部分一定會實現(xiàn)的。


            此外,目前還有一個比較流行的原子級的拋光方法就是等離子體拋光,最早是由日本學(xué)者提出,現(xiàn)在國內(nèi)也有很多地方開始做等離子體拋光,如南方科技大學(xué)的鄧輝教授在這方面做的非常好,這也是未來的發(fā)展方向之一。


            (中國粉體網(wǎng)編輯整理/喬木)

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