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            硫酸鋇研磨分散機(jī)
            硫酸鋇研磨分散機(jī)

            參考價(jià)格

            10-20萬元

            型號(hào)

            CMD2000/4

            品牌

            IKN

            產(chǎn)地

            德國(guó)

            樣本

            暫無
            上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

            金牌會(huì)員

            |

            第14年

            |

            生產(chǎn)商

            工商已核實(shí)

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            核心參數(shù)
            • 能耗:

              4KW
            • 處理量:

              0-300L/H
            • 物料類型:

              粉狀
            • 工作原理:

              立式
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               硫酸鋇研磨分散機(jī),硫酸鋇膠體磨,硫酸鋇研磨機(jī),硫酸鋇溶液研磨分散機(jī),研磨分散機(jī)是將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,效果遠(yuǎn)遠(yuǎn)好于單臺(tái)膠體磨處理的效果,研磨分散機(jī)是一臺(tái)目前**型的研磨分散設(shè)備

               硫酸鋇,適用于上、下消化道造影。無臭、無味粉末,密度4.25-4.5,分解溫度>1600℃。溶于熱濃硫酸,幾乎不溶于水、稀酸、醇。水懸浮溶液對(duì)石蕊試紙呈中性。

                        

            技術(shù)及價(jià)格請(qǐng)來電:賈小姐13795214885   QQ2294898886,公司有樣機(jī)可供客戶購(gòu)前實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!


            CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。


               硫酸鋇研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

            ①   線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

            ②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

            ③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

            ④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

            ⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
             
              硫酸鋇研磨分散機(jī),硫酸鋇膠體磨,硫酸鋇研磨機(jī),上海依肯研磨分散機(jī)是處理藥物混懸液的**設(shè)備!


            從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

            1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

            2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

            3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

            4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

            5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

             

            線速度的計(jì)算:

            剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

            剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                           g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

            由上可知,剪切速率取決于以下因素:

            轉(zhuǎn)子的線速率

            在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
            IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

            速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

             所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

             

            CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
             

            型號(hào)

            流量

            L/H

            轉(zhuǎn)速

            rpm

            線速度

            m/s

            功率

            kw

            入/出口連接

            DN

            CMD2000/4

            300

            9000

            23

            2.2

            DN25/DN15

            CMD2000/5

            1000

            6000

            23

            7.5

            DN40/DN32

            CMD2000/10

            2000

            4200

            23

            22

            DN80/DN65

            CMD2000/20

            5000

            2850

            23

            37

            DN80/DN65

            CMD2000/30

            8000

            1420

            23

            55

            DN150/DN125

            CMD2000/50

            15000

            1100

            23

            110

            DN200/DN150

             

            流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%


            創(chuàng)新點(diǎn)

            目前許多廠家采用國(guó)產(chǎn)膠體磨生產(chǎn),由于國(guó)產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn),生產(chǎn)出來的硫酸鋇溶液粒徑一般在20μm左右,而且生產(chǎn)效果很低,需要研磨5-6小時(shí)。而使用IKN研磨分散機(jī)進(jìn)行處理,研磨兩遍,粒徑可以細(xì)化到5μm,效果好,效率高。

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            易用性

            10分

            性價(jià)比

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            硫酸鋇研磨分散機(jī)信息由上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司為您提供,如您想了解更多關(guān)于硫酸鋇研磨分散機(jī)報(bào)價(jià)、型號(hào)、參數(shù)等信息,歡迎來電或留言咨詢。
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