參考價(jià)格
5-10萬元型號(hào)
CM2000/4品牌
IKN產(chǎn)地
德國樣本
暫無粉碎程度:
超細(xì)粉碎單位能耗:
2.2KW產(chǎn)量:
0-1000L/H裝機(jī)功率(kw):
2.2KW成品細(xì)度:
0-10微米入料粒度(mm):
0-100工作原理:
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超細(xì)粉體膠體磨,超細(xì)粉體研磨設(shè)備,納米粉體膠體磨,超細(xì)粉體研磨機(jī),超細(xì)粉體高速剪切膠體磨,納米膠體磨,超細(xì)膠體磨
超細(xì)粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題,其應(yīng)用日益廣泛,如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率不可缺少,而且是十分重要的技術(shù)手段。
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但是由于超細(xì)粉體粒度小,極易產(chǎn)生自發(fā)凝并,表現(xiàn)出強(qiáng)烈的聚團(tuán)特性,不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體,聚團(tuán)的結(jié)果導(dǎo)致超細(xì)粉體材料性能的嚴(yán)重劣化。另一方面,在復(fù)合材料的制備過程中,由于超細(xì)粉體的這種強(qiáng)烈團(tuán)聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異,超細(xì)粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料,是復(fù)合材料的性能難以達(dá)到人們預(yù)期的效果。
所以為了解決這一問題,各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運(yùn)而生,粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個(gè)目的。其一是使團(tuán)聚粉體的碎解和分散,盡力使團(tuán)聚粉體達(dá)到單粉體分散;其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻,而在使用時(shí)需要性能均一的粉體材料,為了消除各部分性能上的差異,需要對粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理;其三是,有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理,為了保證改性處理的均一性,也需要進(jìn)行分散、混合與均化處理。
膠體磨CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,CM在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。CM2000整機(jī)采用**幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,**的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
高剪切膠體磨運(yùn)行原理:
高剪切膠體磨在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎 區(qū),在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動(dòng)和離心力的作用下,將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎。精磨區(qū)分三級(jí),越向外延伸一級(jí)磨片精度越高,齒距越小,線速度越長,物料越磨越細(xì),同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級(jí)流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經(jīng)過三個(gè)精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的*小細(xì)度可達(dá)0.5um。
IKN膠體磨結(jié)構(gòu):
三道磨碎區(qū):一級(jí)為粗磨碎區(qū),二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū),三級(jí)為超微磨碎區(qū)。
我們的磨頭的結(jié)構(gòu):溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨,而他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。
CM2000系列的特點(diǎn):
1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
2、齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
CM2000系列超細(xì)粉體膠體磨設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 出/入口連接 |
CM2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CM2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CM2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CM2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CM2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CM2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注:流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同事流量可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%
IKN的CM2000系列和國內(nèi)設(shè)備相比
三級(jí)結(jié)構(gòu) | 磨頭結(jié)構(gòu) | 轉(zhuǎn)速 | **線速度 | 模塊頭 | 密封類型 | 產(chǎn)品效果 | |
國內(nèi)設(shè)備 | 溝槽是直線,同級(jí)的溝槽深度一樣
| 溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下 | 目前是不通過變頻器來調(diào)節(jié),若通過變頻調(diào)節(jié),他們的軸承不能承受高速運(yùn)轉(zhuǎn)。一般在3000RPM(這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。) | 大約在10-15M/S
| 只有一種模塊頭 | 單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀
| 粒徑細(xì)度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差
|
IKN 上海依肯 | 溝槽是曲線,上下深度不一,上深下淺 | 斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大 | 可以通過變頻調(diào)速,轉(zhuǎn)速可達(dá)7890/13789RPM ,通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍,研磨的力度也是他們的3-4倍,這樣研磨的細(xì)度更小) | 23-40 M/S | 可以選擇六種不同的模塊頭,實(shí)現(xiàn)多種功能,如三級(jí)乳化模塊,超高速模塊,CM膠體模塊,CMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊
| 雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至*低,可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)
| 可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工 |
超細(xì)粉體膠體磨,超細(xì)粉體研磨設(shè)備,納米粉體膠體磨,超細(xì)粉體研磨機(jī),超細(xì)粉體高速剪切膠體磨,納米膠體磨,超細(xì)膠體磨
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超高速轉(zhuǎn)速14000rpm,高精密度工作頭。
親水性O(shè)X50納米二氧化硅分散液混合分散機(jī),防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機(jī),納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機(jī),連續(xù)式納米二氧化硅分散機(jī),在線式納米二氧化硅分散機(jī),德國進(jìn)口分散機(jī),在線式分散機(jī)IK
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西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的復(fù)合物,具有降低氣泡表面張力,裂解氣泡的特性。本品由德國柏林化學(xué)公司在上世紀(jì)七十年代開發(fā)上市,在歐美等國家地區(qū)已使用三十多年。自2001年我國衛(wèi)生部允
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乳劑(Emulsion)是指互不相溶的兩相液體,其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑。形成液滴的相稱為分散相、內(nèi)相或非連續(xù)相,另一相液體則稱為分散介質(zhì)、外相或連續(xù)相
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