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            HGH DCN1000低溫?cái)U(kuò)展面源黑體
            HGH DCN1000低溫?cái)U(kuò)展面源黑體

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            法國

            樣本

            暫無
            廣州市固潤(rùn)光電科技有限公司

            會(huì)員

            |

            第2年

            |

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            低溫黑體

            DCN1000 低溫?cái)U(kuò)展面源黑體

            -**溫度范圍從–40 °C +150 °C

            -差分和**兩種工作模式

            -發(fā)射面積可達(dá) 300 mm x 300 mm

            氣體冷卻 DCN1000N/H 系列和液體冷卻 DCN1000W/L 系列是在**溫度–40 °C +150 °C 溫度范圍內(nèi)具有良好的熱均勻性,穩(wěn)定性和較高的發(fā)射率的擴(kuò)展面源黑體。

            系統(tǒng)由一發(fā)射本體和控制溫度的電控裝置組成,溫度控制采用實(shí)時(shí) PID 參數(shù)調(diào)整技術(shù)。它們包含一個(gè)溫度由電控單元控制的發(fā)射頭,發(fā)射本體同時(shí)包括靶標(biāo)的支架。發(fā)射表面溫度被精確和穩(wěn)定的控制到低于或高于靶標(biāo)溫度。標(biāo)定過的高精度的Pt溫度傳感器實(shí)時(shí)地測(cè)量靶標(biāo)和發(fā)射表面的溫度。

            不同尺寸的發(fā)射面能滿足不同的使用要求,例如:與 MRTD,LSF NETD 靶標(biāo)結(jié)合可檢測(cè)熱成像儀的特性,焦平面陣列的測(cè)試,紅外傳感器的非均勻性校正等。

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