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HPA/SPM
定性和定量氣體分析模塊化和靈活的解決方案。
高壓分析儀 HPA 220
在壓力范圍高達(dá) 50 hPa 下的氣體分析
高壓分析儀 HPA 220 是一個(gè)模塊化、靈活實(shí)用的質(zhì)譜儀系統(tǒng),它帶有一個(gè)干式渦輪分子泵組,可用于在壓力高達(dá) 50 hPa 的真空中進(jìn)行氣體分析。
根據(jù) HPA 220 的用途,有五種不同電動(dòng)氣動(dòng)以及手動(dòng)操作的進(jìn)氣口閥可供選擇。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
由于其 5 種手動(dòng)、電動(dòng)氣動(dòng)操作的進(jìn)氣口選擇,使得它在壓力高達(dá) 50 hPa 壓下為分析、監(jiān)測(cè)和控制過(guò)程提供了很大的靈活性。
通過(guò)各種數(shù)字和模擬輸入和輸出,使系統(tǒng)集成方便而靈活。
多重操作允許多個(gè)質(zhì)譜儀 系統(tǒng)只用一臺(tái)電腦進(jìn)行數(shù)據(jù)評(píng)估。
緊湊的尺寸實(shí)現(xiàn)靈活的集成。
在 1 · 10-7 至 50 hPa 的壓力范圍內(nèi)進(jìn)行真空工藝的分析、監(jiān)測(cè)和控制
真空鍍膜系統(tǒng)的制造商和操作員
半導(dǎo)體生產(chǎn)
光刻
冶金
真空爐
研發(fā)
鍍膜工藝監(jiān)測(cè)器 SPM 220
真空鍍膜工藝監(jiān)測(cè)器 SPM 220 為鍍膜工藝的定性和定量氣體分析提供了**的解決方案。HiPace 渦輪分子泵組和質(zhì)譜儀系統(tǒng)的組合加上專門開(kāi)發(fā)的鍍膜工藝監(jiān)測(cè)器離子源,在高達(dá) 10-2 hPa 的壓力下,實(shí)現(xiàn)了精確到分鐘的工藝氣體分析。
普發(fā)真空還提供了一個(gè)帶有壓差孔板法蘭的版本作為選擇,使得在高達(dá) 10 hPa 的壓力范圍里進(jìn)行直接的工藝氣體分析成為了可能。
用于瞬時(shí)過(guò)程監(jiān)測(cè)的鍍膜工藝監(jiān)測(cè)器離子源
用于 H2、O2、H2O 和 CO2 的優(yōu)秀檢測(cè)限
對(duì)測(cè)量結(jié)果的*小化背景影響
壓力高達(dá) 10 hPa 的壓差版本
多重操作允許帶單個(gè) PC 的多個(gè)質(zhì)譜儀系統(tǒng)進(jìn)行數(shù)據(jù)評(píng)估
靈活集成的緊湊尺寸
通過(guò)各種數(shù)字和模擬輸入和輸出,使系統(tǒng)集成方便而靈活
在高達(dá) 10-2 hPa 的壓力下,鍍膜工序的分析可精確到分鐘
真空鍍膜系統(tǒng)的制造商和操作員
半導(dǎo)體生產(chǎn)
玻璃鍍膜
薄膜太陽(yáng)能電池發(fā)電
研發(fā)
尺寸
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