參考價(jià)格
面議型號(hào)
Park XE15品牌
Park產(chǎn)地
韓國(guó)樣本
暫無誤差率:
*分辨率:
*重現(xiàn)性:
*儀器原理:
其他分散方式:
*測(cè)量時(shí)間:
*測(cè)量范圍:
*看了Park XE15的用戶又看了
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Park XE15具有眾多的獨(dú)特功能,是處理多種樣品的共享實(shí)驗(yàn)室、進(jìn)行多變量實(shí)驗(yàn)的研究院以及晶片故障分析工程師的**選擇。同時(shí),合理的價(jià)格和穩(wěn)健的功能使之成為業(yè)內(nèi)*超值的大型樣品原子力顯微鏡之一。
Park XE15能夠一次性掃描和測(cè)量多個(gè)樣品,讓您的效率一高再高。您只需要將樣品放入工作臺(tái),再啟動(dòng)掃描程序便可。該功能也可以讓您在相同的環(huán)境條件下掃描樣品,從而提高數(shù)據(jù)的精確性和穩(wěn)定性。
與大多數(shù)的原子力顯微鏡不同,Park XE15可掃描**尺寸為200 mm x 200 mm的樣品。這樣既滿足了研究員對(duì)掃描大樣品的需求,也讓故障分析工程師能夠掃描硅片。
Park XE15配有絕大多數(shù)的掃描模式,可掃描各種尺寸的樣品。得益于此,Park XE15是共用實(shí)驗(yàn)室的**配置,能夠滿足每個(gè)人的需求。
一次性自動(dòng)多樣品成像
特別設(shè)計(jì)的多樣品卡盤,可裝載多達(dá)16個(gè)樣品
全機(jī)動(dòng)XY軸樣品臺(tái),行程范圍達(dá)150 mm x 150 mm
借助電動(dòng)樣品臺(tái),MultiSample?掃描模式能夠允許用戶自行編程,借助自動(dòng)化步進(jìn)掃描,實(shí)現(xiàn)多區(qū)域成像。
流程如下:
1.記錄用戶定義的多個(gè)掃描位置
2.在**個(gè)掃描位置成像
3.提升懸臂
4.將電動(dòng)樣品臺(tái)移至下一個(gè)用戶定義坐標(biāo)
5.探針接近
6.重復(fù)掃描
記錄多個(gè)掃描位置十分簡(jiǎn)單,您可以輸入樣品-樣品臺(tái)坐標(biāo)或使用兩個(gè)參考點(diǎn)校正樣品位置。該自動(dòng)化功能大大減少您在掃描過程中需要的工作,極大提高了生產(chǎn)力。
Park Systems的先進(jìn)串?dāng)_消除(XE)掃描系統(tǒng)能夠有效解決上述問題。我們使用了二維柔性平臺(tái)專門掃描樣品的XY軸位置,并通過壓電疊堆傳動(dòng)裝置專門掃描探針懸臂的Z軸位置。用于XY軸掃描的柔性平臺(tái)采用了固體鋁材,其具有超高的正交性和出色的平面外運(yùn)動(dòng)軌跡。柔性平臺(tái)可在XY軸掃描大型樣品(1 kg左右),頻率**達(dá)100 Hz左右。由于XY軸的帶寬要求遠(yuǎn)低于Z軸的帶寬要求,因此該掃描速度已然足夠。用于Z軸掃描的壓電疊堆傳動(dòng)裝置具有大的推拉力和高共振頻率(約10 kHz)。
圖9. (a)表示 Park Systems XE系統(tǒng)的背景曲率為零,(b)是傳統(tǒng)的原子力顯微鏡系統(tǒng)的管式掃描器的典型背景曲率, (c)展示了這些背景曲率的橫截面。
圖9展示了XE系統(tǒng)(a)和傳統(tǒng)原子力顯微鏡(b)掃描硅片時(shí),未處理的成像圖。由于硅片屬于原子級(jí)光滑材料,因此圖像中的彎曲大多數(shù)是掃描器所引起的。圖9(c)展示了圖9中(a)(b)圖像的橫截面。由于管式掃描器本身帶有背景曲率,因此當(dāng)X軸的位置移動(dòng)15 μm時(shí),平面外移動(dòng)**可達(dá)80 nm。而在相同的掃描范圍內(nèi),XE掃描系統(tǒng)的平面外移動(dòng)則不超過1 nm。XE掃描系統(tǒng)的另一大優(yōu)勢(shì)是Z軸伺服回應(yīng)。圖10是XE掃描系統(tǒng)在無接觸模式下拍下的一個(gè)多孔聚合物球體(二乙烯苯)的圖像,其直徑大約為5 μm。由于XE掃描系統(tǒng)的Z軸伺服回應(yīng)極其精準(zhǔn),探針可以精確地沿著聚合物球體上的大曲率以及小孔平面結(jié)構(gòu)移動(dòng),而不會(huì)壓碎或粘連在其表面上。圖11是Z軸伺服回應(yīng)在平坦背景上高性能的表現(xiàn)。
暫無數(shù)據(jù)!