<b id="acoce"></b>
參考價格
面議型號
CMD2000品牌
IKN產(chǎn)地
樣本
暫無能耗：
2.20-110處理量：
0-500L/H物料類型：
其它工作原理：
立式看了低銀含量導電銀漿高剪切研磨分散機的用戶又看了
留言詢價
電話詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
低銀含量導電銀漿高剪切研磨分散機，導電銀漿管線式研磨分散機，導電銀漿超高速分散機，超高速膠體磨，超高速分散機，超高速研磨機，管線式研磨機，管線式膠體磨，研磨分散機廠家
IKN研磨分散機設(shè)計獨特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。
在導電漿料領(lǐng)域里，銀系漿料具有導電率高、性能穩(wěn)定、可印刷性好、與基板結(jié)合強度大等特點，廣泛應(yīng)用于各種電子元器件的生產(chǎn)，如集成電路、薄膜開關(guān)、電加熱膜片等。導電銀漿是指印刷于導電承印物上，使之具有傳導電流和排除積累靜電荷能力的銀漿，一般是印在塑料、玻璃、陶瓷或紙板等非導電承印物上。
導電銀漿的制作工藝中銀的含量分別為20-60％、40-70％、60-90％。而用于印刷(油墨狀)的導電銀漿銀的含量一般在40-70％，因此，無論是采用哪一類型的導電銀漿，成本都相對較高。而且常規(guī)技術(shù)為了解決結(jié)合力、壽命等問題，更是加大銀粉的含量，來提高導電性。因此，降低導電銀漿的成本，對于降低整個產(chǎn)品成本，具有決定性的意義。通過降低導電銀漿的銀含量，同時保持其高導電率，是降低銀漿成本的有效途徑。
導電銀漿制備工藝簡單，減少了貴金屬銀粉的用量，大幅度降低了導電銀漿的生產(chǎn)成本；而且使用的納米碳化硅環(huán)氧樹脂也大大的提高了材料的導熱性能和力學性能，納米碳化硅不僅降低環(huán)氧樹脂的玻璃轉(zhuǎn)變溫度，同時也降低了導電漿的使用溫度。因此該導電漿成本低，附著力強，成膜簡單，具有重要的應(yīng)用價值。
導電銀漿高剪切研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第1級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應(yīng)用。
3.CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）
4.銀漿高剪切研磨分散機，銀漿超高速分散機的型號表
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 18 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%。 | |||||
1） 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2） 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。
IKN研磨分散機設(shè)計獨特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。
親水性O(shè)X50納米二氧化硅分散液混合分散機，防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機，納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機，連續(xù)式納米二氧化硅分散機，在線式納米二氧化硅分散機，德國進口分散機，在線式分散機IK
2019-03-15
西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的復合物，具有降低氣泡表面張力,裂解氣泡的特性。本品由德國柏林化學公司在上世紀七十年代開發(fā)上市，在歐美等國家地區(qū)已使用三十多年。自2001年我國衛(wèi)生部允
2023-03-27
乳劑（Emulsion）是指互不相溶的兩相液體，其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑。形成液滴的相稱為分散相、內(nèi)相或非連續(xù)相，另一相液體則稱為分散介質(zhì)、外相或連續(xù)相
2024-03-13
醫(yī)藥微球乳化就是采用批次操作還是在線操作微球（microspheres）是指藥物分散或被吸附在高分子聚合物基質(zhì)中而形成的微小球狀實體，其粒徑一般在1—250μ
2024-03-13
不同轉(zhuǎn)速分散機比較 依肯（IKN）機械 最新產(chǎn)品目錄 依肯（IKN）機械 最新產(chǎn)品目錄 依肯（IKN）機械不同轉(zhuǎn)速分散機的比較 IKN乳化頭定轉(zhuǎn)子技術(shù) 
在乳劑藥品如軟膏、乳霜等的整個生產(chǎn)過程中——必須按照嚴格的產(chǎn)品衛(wèi)生或無菌級標準進行管控。各種原料必須在受控、安全和可重復的條件下以定量的方式進行均質(zhì)、加熱、冷卻、滅菌與填充。生產(chǎn)系統(tǒng)必須包含在線清洗（
一種分散乳化一體機
石墨粉液相剝離制備石墨烯，石墨烯液相剝離制備石墨烯，石墨粉液相剝離 石墨高速研磨分散目前，已經(jīng)有很多制備石墨烯的方法，整體上可以分為 自下而上和自上而下兩類。自上而下途徑是從石墨出發(fā)（又可
納米乳化及納米高速乳化機的解決辦法納米乳化及納米高速乳化機的
納米材料分散和高速分散機解決辦法納米材料分散和高速分散機解決
低銀含量導電銀漿高剪切研磨分散機的工作原理介紹？低銀含量導電銀漿高剪切研磨分散機的使用方法？低銀含量導電銀漿高剪切研磨分散機多少錢一臺？低銀含量導電銀漿高剪切研磨分散機使用的注意事項低銀含量導電銀漿高剪切研磨分散機的說明書有嗎？低銀含量導電銀漿高剪切研磨分散機的操作規(guī)程有嗎？低銀含量導電銀漿高剪切研磨分散機的報價含票含運費嗎？低銀含量導電銀漿高剪切研磨分散機有現(xiàn)貨嗎？低銀含量導電銀漿高剪切研磨分散機包安裝嗎？
手機版：
<b id="acoce"></b>
工商已核實
