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石墨烯納米硅復合研磨分散機，石墨烯復合材料研磨分散機，納米硅研磨分散機，石墨烯復合漿料研磨分散機，德國進口高剪切研磨分散機，高轉(zhuǎn)速研磨分散機，膠體磨升級款研磨機

IKN研磨分散機設計獨特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。

石墨烯自身的間內(nèi)躍遷及等離子體振蕩帶來的獨特光學特性，用于紅外光探測有著突出的優(yōu)勢。但也存在著明顯的劣勢：本征石墨烯自身由于光吸收率低、缺乏光增益機制，導致石墨烯探測器的光響應率較低；石墨烯自身的光生載流子壽命短，僅皮秒左右，導致光生載流子難以有效收集，也嚴重影響探測器的光響應率，石墨烯探測器的低響應率無法滿足實際應用的需要。目前，通過對石墨烯進行量子點修飾、構(gòu)筑 PN 結(jié)、分子或金屬摻雜及尺寸量子化等方式打開石墨烯帶隙、石墨烯與等離子體納米結(jié)構(gòu)結(jié)合、石墨烯與微腔或硅波導集成等多種方法，可以不同程度地提高石墨烯探測器的光響應率，以達到或接近實際應用的需要。

由于鋰離子電池具有高容量、無記憶效應、快速可逆充放電、高庫倫效率等優(yōu)點，其已在便攜式電子產(chǎn)品如手機、筆記本電腦、數(shù)碼相機等中得到廣泛應用。然而再近二十年來，人們再大容量鋰離子二次電池的研究商進展緩慢。為滿足對高容量鋰離子二次電池的需求，開發(fā)高容量、低成本的新型電極材料具有很高的研究價值。

   硅石一種理想的鋰離子電池負極材料，其具有很高的理論儲鋰容量以及較低的儲理點位。而在充放電過程中，硅極材料的體積效應使得該材料容易粉化，進入從集流體上剝落，從而導致容量迅速衰減。而且，硅基材料的較差的循環(huán)穩(wěn)定性大大限制了其應用

  石墨烯石油SP2雜化碳原子再二維平面以六角網(wǎng)格形式排列形成的準二維材料。因其柔性結(jié)構(gòu)、高的縱橫比、優(yōu)異的導電性和化學穩(wěn)定性。

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設備轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是目前普通設備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設備其它參數(shù):

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

工藝應用:

食品纖維類物料的濕法超細破碎與均質(zhì)      可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解

動物和植物組織的超細破碎及漿化加工      不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散

不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散       納米材料團聚物的強力解聚與超細分散

IKN研磨分散機的應用領域：

1、  精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散

2、  石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化

3、  農(nóng)藥化肥 、化肥、農(nóng)藥乳化、農(nóng)藥助劑、農(nóng)藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復合肥、乳油濕性粉劑

4、  生物醫(yī)藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質(zhì)分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣

5、  日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發(fā)用品、牙膏、日用香精

6、  食品工業(yè)、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末

7、  涂料油墨、內(nèi)外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土