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            ALD原子層沉積系統(tǒng)
            ALD原子層沉積系統(tǒng)

            參考價(jià)格

            面議

            型號(hào)

            SAL1000G

            品牌

            產(chǎn)地

            樣本

            暫無
            凱戈納斯儀器商貿(mào)(上海)有限公司

            會(huì)員

            |

            第6年

            |

            生產(chǎn)商

            工商已核實(shí)

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            SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子層沉積系統(tǒng),具有良好的均勻性及優(yōu)越的階梯覆蓋性能,使用戶能夠精確控制每個(gè)原子層的沉積。通過手套箱,可在惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行操作,并且可以防止吸入納米級(jí)顆粒。該設(shè)備是小型且經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的型號(hào),與主機(jī)和控制電源相結(jié)合,追求僅在桌面上更容易操作。 它能夠處理多達(dá)4“晶圓的沉積,并對(duì)每個(gè)部件采取安全措施。

            AGUS提供沉積測(cè)試服務(wù)作為我們支持的一部分,以提高實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)確性。請(qǐng)隨時(shí)與凱戈納斯儀器商貿(mào)(上海)有限公司聯(lián)系。

            - 多樣性 -

            · 真空可移動(dòng)的手套箱可以處理易氧化的樣品。

            · 前驅(qū)體標(biāo)配兩組閥門和氣瓶。

            · 可選擇將前驅(qū)體加熱至200攝氏度。

            · 可選擇基片自動(dòng)旋轉(zhuǎn)支架。

            · 可選擇粉體沉積配件。

            · 可選擇經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的廢氣處理設(shè)備。

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            - 表現(xiàn) -

            · 保證基片表面上的每個(gè)均勻原子層針孔自由層沉積。

            · 通過階梯覆蓋沉積在不均勻或3D形狀的表面。

            · 與CVD和PVD相比,可以獲得更好的沉積,特別是對(duì)于具有更高縱橫比和多孔沉積材料。

            - 操作界面友好 -

            · 觸摸屏使用戶可以輕松設(shè)置配方或沉積過程,并檢查每個(gè)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)。

            · 可進(jìn)行自動(dòng)沉積,并在沉積完成后自動(dòng)完成N2排放。

            · 手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動(dòng)完成。

            - 安全性 -

            · 這是具有各種互鎖功能的高級(jí)設(shè)備。

             - 具有輕柔關(guān)閉功能的頂部艙口使用戶可以輕松地裝載和卸載基片。

             

            性能

            真空度

            到達(dá)壓力

            ≤5Pa

            成膜性能

            膜厚分布

            ≤± 3% (φ 100mm)

            設(shè)備構(gòu)成

            設(shè)備型號(hào)

            SAL1000G

            成膜方向

            下表面

            基底尺寸

            φ 100mm or 4 inch Max

            基底加熱器溫度

            350℃ Max

            前驅(qū)體數(shù)

            2

            前驅(qū)體溫度

            150℃ Max

            凈化氣體

            N2 (氣體控制:帶流量計(jì)針型閥)

            手套箱

            有機(jī)玻璃,真空-氮?dú)獯祾呤?/p>

            真空泵

            162L/min 旋片式真空機(jī)械泵

            重量

            本體:50kg,手套箱:35kg,真空泵:27kg

            可選配置

            基片自動(dòng)旋轉(zhuǎn)支架

            粉體沉積配件

            廢氣處理設(shè)備

            前驅(qū)體加熱器- 200℃

            安裝要求

            電源要求

            電源

            3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz

            接地

            <100Ω

            線纜

            5m 附贈(zèng)

            N2吹掃氣體

            供給壓力

            0.1 ~.0.2Mpa

            接口

            1/4 Swagelok

            壓縮空氣

            供給壓力

            0.6 ~0.8Mpa

            接口

            φ6mm 接口

            真空泵排氣口

            排氣口

            KF-25法蘭

            設(shè)備排氣口

            排氣口

            φ38mm x   L28軟管適配器

            安裝尺寸

            W1000 x D700 x H900


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            產(chǎn)品質(zhì)量

            10分

            售后服務(wù)

            10分

            易用性

            10分

            性價(jià)比

            10分
            評(píng)論內(nèi)容
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            ALD原子層沉積系統(tǒng)信息由凱戈納斯儀器商貿(mào)(上海)有限公司為您提供,如您想了解更多關(guān)于ALD原子層沉積系統(tǒng)報(bào)價(jià)、型號(hào)、參數(shù)等信息,歡迎來電或留言咨詢。
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