KH-570原位改性納米二氧化硅的制備與表征

編號：CPJS06303

篇名：KH-570原位改性納米二氧化硅的制備與表征

作者：王亞紅 洪勇波 趙夢婷 王念貴

關(guān)鍵詞： 正硅酸乙酯 γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷 納米二氧化硅 原位改性

機構(gòu)： 湖北大學化學化工學院

摘要： 以正硅酸乙酯(TEOS)為原料,采用溶膠-凝膠法制備納米二氧化硅溶膠,再用γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷(KH-570)對其進行改性,得到KH-570改性的納米二氧化硅。采用紅外光譜(FT-IR)、粒徑分析、透射電鏡(TEM)以及熱重分析(TG)等對原料及產(chǎn)物進行表征。結(jié)果表明:KH-570能夠成功改性納米二氧化硅,改性后的納米二氧化硅尺寸主要分布在30~115nm。