金屬基底上金屬納米顆粒間隙內(nèi)的自發(fā)輻射調(diào)控

編號：NMJS06968

篇名：金屬基底上金屬納米顆粒間隙內(nèi)的自發(fā)輻射調(diào)控

作者：劉孟穎 鐘瑩

關(guān)鍵詞： 薄膜 金納米顆粒 輻射源 輻射速率 輻射方向

機構(gòu)： 天津大學精密儀器與光電子工程學院精密測試技術(shù)及儀器國家重點實驗室

摘要： 將聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)層置于金納米顆粒與金基底之間,研究了金納米顆粒對處于PMMA夾層中的分子或量子點輻射源的總輻射速率、遠場輻射速率、輻射方向等的影響。與單個金納米顆粒相比,當2,3,5,9個金納米顆粒等間距排列時,總輻射速率和遠場輻射速率都會增強。通過測量遠場輻射方向,可以反推出納米顆粒的數(shù)量和間距,從而實現(xiàn)納米顆粒數(shù)量和間距的高精度測量。