雙層石墨烯在柵壓調(diào)控下的各向異性刻蝕

編號：CPJS06109

篇名：雙層石墨烯在柵壓調(diào)控下的各向異性刻蝕

作者：王國樂 謝立 陳鵬 楊蓉 時東霞 張廣宇

關(guān)鍵詞： 石墨烯納米結(jié)構(gòu) 各向異性刻蝕 柵壓 可控加工

機構(gòu)： 中國科學院物理研究所 北京納米材料與納米器件重點實驗室 量子物質(zhì)科學協(xié)同創(chuàng)新中心 中國科學院大學物理學院

摘要： 石墨烯納米結(jié)構(gòu)在納電子學研究領(lǐng)域表現(xiàn)出了良好的應(yīng)用前景.氫等離子體各向異性刻蝕技術(shù)是加工石墨烯精細納米結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵技術(shù)之一,可以實現(xiàn)10 nm以下平整的鋸齒型石墨烯納米帶的可控加工.本文系統(tǒng)研究了外加電場對石墨烯各向異性刻蝕效應(yīng)的影響,利用外加柵壓實現(xiàn)了氧化硅襯底上的雙層石墨烯各向異性刻蝕速率的調(diào)控.在±30 V柵壓變化范圍內(nèi),刻蝕速率比可達45.由此不僅可以提高大批量加工石墨烯納米結(jié)構(gòu)的效率,還可以實現(xiàn)5 nm以下極小尺寸石墨烯納米帶的可控加工.研究結(jié)果為石墨烯精細納米結(jié)構(gòu)器件的高效批量加工提供了思路.