Ta-Si-N納米復(fù)合薄膜中的界面結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能

編號(hào)：CPJS05533

篇名：Ta-Si-N納米復(fù)合薄膜中的界面結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能

作者：劉學(xué)杰 ;曾海清 ;任元

關(guān)鍵詞： Ta-Si-N納米復(fù)合表面 第一性原理 界面結(jié)構(gòu) 力學(xué)性能

機(jī)構(gòu)： 內(nèi)蒙古科技大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院,內(nèi)蒙古包頭014010

摘要： 為了考察Ta-Si-N復(fù)合薄膜的力學(xué)性能,采用基于密度泛函理論（DFT）的第一性原理方法對Ta-Si-N納米復(fù)合薄膜中的界面結(jié)構(gòu)形式及界面力學(xué)性能進(jìn)行了研究.研究結(jié)果表明：Ta-Si-N納米復(fù)合薄膜中存在置換型界面與間隙型界面兩類結(jié)構(gòu)的界面.比較其體模量、剪切模量和彈性模量,可以看出Ta-Si-N中置換型界面的力學(xué)性能優(yōu)于間隙型界面的力學(xué)性能,而這兩種界面的力學(xué)性能均不如Ta N晶體的力學(xué)性能.Ta N晶體彈性模量的各向異性比較突出,兩種界面的彈性模量顯示為各向同性.