納米SiO_2對阿魏酸分子印跡復合膜的影響研究

編號：CPJS05280

篇名：納米SiO_2對阿魏酸分子印跡復合膜的影響研究

作者：陳洪巖 ;王樞 ;韋美華 ;王毅

關鍵詞：分子印跡復合膜 納米SIO2 水通量 分離效率 承壓能力

機構： 西南交通大學生命科學與工程學院,成都610031

摘要： 以PVDF微孔濾膜為支撐膜,納米SiO_2為無機添加材料,阿魏酸為模板分子,α-甲基丙烯酸為功能單體,乙二醇二甲基丙烯酸酯為交聯(lián)劑,制備含納米SiO_2的阿魏酸分子印跡復合膜。采用紅外光譜測試證明了納米SiO_2是以純物理狀態(tài)存在于聚合物印跡層中,通過平板超濾裝置對改性膜的分離性能、水通量、接觸角和承壓能力進行了研究,結果表明,膜對阿魏酸仍然具有較高的分離性能,水通量和承壓能力也比阿魏酸分子印跡復合膜有所提高。