熱退火-選擇性溶脹成孔法制備PS-b-PNIPAAm/PVDF納米均孔復合膜

編號：NMJS06119

篇名：熱退火-選擇性溶脹成孔法制備PS-b-PNIPAAm/PVDF納米均孔復合膜

作者：賴舒憶 ;馬紹玲 ;李戰(zhàn) ;王倩 ;馮霞

關鍵詞：兩親嵌段共聚物 選擇性溶脹成孔法 熱退火 納米均孔復合膜 微相分離

機構： 天津工業(yè)大學材料科學與工程學院,省部共建分離膜與膜過程國家重點實驗室,天津300387

摘要： 將兩親嵌段共聚物聚苯乙烯-b-聚（N-異丙基丙烯酰胺）（PS-b-PNIPAAm）涂覆在聚偏氟乙烯（PVDF）膜上構建復合膜,采用熱退火方式控制PS-b-PNIPAAm的微相分離行為,并以異丙醇為溶劑,利用選擇性溶脹成孔法制備PS-b-PNIPAAm/PVDF復合膜,研究了不同退火溫度對PS-b-PNIPAAm薄膜分相行為及PS-b-PNIPAAm/PVDF復合膜形貌的影響。結果表明：通過熱退火和選擇性溶脹成孔法能夠得到納米均孔復合膜,熱退火溫度對復合膜表面的形貌有較大影響。