基于動態(tài)光散射的SiO2/H2O納米流體分散穩(wěn)定性初探

編號：NMJS06108

篇名：基于動態(tài)光散射的SiO2/H2O納米流體分散穩(wěn)定性初探

作者：申韶磊 ;畢勝山 ;胡豐凡 ;譚益農(nóng) ;馬綸建 ;崔軍衛(wèi) ;吳江濤

關(guān)鍵詞：動態(tài)光散射 納米流體 黏度 顆粒粒徑

機構(gòu)： 西安交通大學(xué)熱流科學(xué)與工程教育部重點實驗室能源與動力工程學(xué)院,西安710049

摘要： 基于動態(tài)光散射法,采用同差探測實現(xiàn)了納米流體分散體系的粒度測量。對體積分數(shù)為0.005%和0.0025%濃度的SiO2/H2O納米流體顆粒粒徑進行了測量,粒徑的實驗值的平均偏差分別為1.37%和1.39%,可以滿足納米顆粒粒徑的高精度測量要求。兩種濃度的SiO2/H2O納米流體的平均粒徑基本一致,偏差在實驗的不確定度以內(nèi),且隨時間無明顯變化,證明了顆粒分散的穩(wěn)定性,本方法可以用于納米流體分散穩(wěn)定性的評價。