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            不同厚度二維VN插入層對TiSiN納米復合膜微觀結(jié)構(gòu)和力學性能的影響

            編號:NMJS05041

            篇名:不同厚度二維VN插入層對TiSiN納米復合膜微觀結(jié)構(gòu)和力學性能的影響

            作者:薛增輝; 李偉; 劉平; 馬鳳倉; 劉新寬; 陳小紅; 何代華;

            關(guān)鍵詞:TiSiN納米復合膜; VN插入層; 微觀結(jié)構(gòu); 力學性能;

            機構(gòu): 上海理工大學機械工程學院; 上海理工大學材料科學與工程學院;

            摘要: 采用TiSi復合靶與V靶,用射頻磁控濺射工藝在TiSiN納米復合膜中插入不同厚度的VN納米層,采用X射線衍射儀(XRD)、高分辨透射電子顯微鏡(HRTEM)和納米壓痕儀研究了VN插入層厚度對TiSiN納米復合膜的微觀結(jié)構(gòu)和力學性能的影響。結(jié)果表明:當TiSiN納米復合膜中插入VN納米層厚度較小時,薄膜由納米復合結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變成納米多層結(jié)構(gòu),薄膜硬度降低。繼續(xù)增加VN層厚度,薄膜硬度隨之升高,在VN沉積層厚為0.5 nm時薄膜出現(xiàn)連續(xù)貫穿多層納米層、結(jié)晶度良好的柱狀晶,TiSiN層與VN層呈共格外延生長的結(jié)構(gòu),薄膜硬度達到37.2 GPa。隨著VN層厚的繼續(xù)增加,薄膜的共格外延生長結(jié)構(gòu)消失,硬度下降。

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