Ni-P鍍層的磁性混合流體拋光

編號(hào)：FTJS04805

篇名：Ni-P鍍層的磁性混合流體拋光

作者：郭會(huì)茹； 吳勇波； 焦黎； 曹建國(guó)； 李亞國(guó)；

關(guān)鍵詞：磁性混合流體拋光； 磨粒涂層鐵粉； Ni-P鍍層； 磁性材料； 拋光路徑；

機(jī)構(gòu)： 秋田縣立大學(xué)機(jī)械智能系統(tǒng)工程學(xué)部； 北京理工大學(xué)先進(jìn)加工技術(shù)國(guó)防重點(diǎn)學(xué)科實(shí)驗(yàn)室；

摘要： 采用磁性混合流體(Magnetic compound fluid,MCF)對(duì)光學(xué)鏡頭模具的鎳-磷(Nickel phosphorus,Ni-P)鍍層表面進(jìn)行拋光研究。試驗(yàn)中使用兩種構(gòu)成成分的MCF:常用的BASF制HQ鐵粉(Carbonyl-iron-particles,CIPs)和Al2O3磨�；鵐CF1以及新型的表面ZrO2磨粒(50~100 nm)涂層鐵粉基MCF2。兩種成分的MCF都消除了Ni-P鍍層表面單晶金剛石車削殘留的螺旋狀切削痕。但使用MCF1,由于Al2O3磨粒相對(duì)于ZrO2磨粒較大且較硬,易引入拋光痕及鐵粉粒子的嵌入,難以進(jìn)一步改善Ni-P鍍層的表面質(zhì)量。采用新型ZrO2磨粒涂層鐵粉基MCF2,則沒有引入拋光痕及粒子的嵌入,實(shí)現(xiàn)Ni-P鍍層表面粗糙度方均根值(Root mean square,RMS)和Ra的改善。通過(guò)在x軸和y軸方向設(shè)計(jì)拋光路徑,使粒子均具有相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度,同時(shí)改善了Ni-P鍍層的表面粗糙度及平坦度。初步證明了磁性混合流體拋光亦可用于較軟的磁性材料表面的納米級(jí)光整加工。