低溫直流磁控濺射制備金紅石相TiO2的研究（英文）

編號(hào)：FTJS04684

篇名：低溫直流磁控濺射制備金紅石相TiO2的研究（英文）

作者：王明娥； 馬國(guó)佳； 孫剛； 劉星； 張林； 鞏水利； 董闖；

關(guān)鍵詞：低溫； TiO2薄膜； 直流磁控濺射； 晶化；

機(jī)構(gòu)： 大連理工大學(xué)； 北京航空制造所高能束流加工技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室；

摘要： 利用直流磁控濺射方法在硅片和鈦合金基底上沉積制備了二氧化鈦薄膜。主要研究了變化的基片偏壓對(duì)薄膜性能的影響。用XRD和SEM分析了薄膜的晶體結(jié)構(gòu)和表面形貌,利用納米壓痕儀,劃痕儀,摩擦試驗(yàn)機(jī)分別測(cè)試了薄膜的納米硬度,膜基界面結(jié)合力和摩擦性能。結(jié)果表明,本方法在不加熱基片的條件下制備出表面光滑致密,力學(xué)性能和摩擦學(xué)性能良好的金紅石相TiO2薄膜。