氫氧焰入射角對石英玻璃沉積效率的影響

編號：FTJS04399

篇名：氫氧焰入射角對石英玻璃沉積效率的影響

作者：徐彬； 顧真安；

關鍵詞：化學氣相沉積； 沉積效率； 石英玻璃；

機構： 哈爾濱工業(yè)大學材料科學與工程學院； 中國建筑材料科學研究總院；

摘要： 為提高CVD合成石英玻璃的沉積效率,對不同氫氧焰入射角的工況進行了試驗和數(shù)值模擬,比較并分析了沉積效率的變化規(guī)律和二氧化硅微粒的沉積機制.結果表明:數(shù)值模擬與試驗測得的沉積效率基本吻合;近沉積面的速度分布決定了二氧化硅微粒的沉積分布,二氧化硅微粒沉積的主要機制為湍流沉積,熱泳沉積起協(xié)助作用;氫氧焰入射角不同,近沉積面的速度分布和沉積面的高溫區(qū)域均有明顯差異,入射角過大或過小,都會造成二氧化硅微粒沉積位置和沉積面高溫區(qū)的重合區(qū)域減小,降低沉積效率.入射角度為22°時,沉積效率最高(71%).