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CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

插層石墨研磨設備 是一種利用物理或化學的方法使非碳質(zhì)反應物插入石墨層間，與碳素的六角網(wǎng)絡平面結(jié)合的同時又保持了石墨層狀結(jié)構(gòu)的晶體化合物。石墨插層化合物不僅保留了石墨原有的理化性質(zhì)，而且由于插入物質(zhì)與碳層之間的相互作用而呈現(xiàn)出石墨與插層物質(zhì)均不具備的一些新的特性

高導電率材料、電池材料、密封材料由于石墨層間化合物的內(nèi)表面積非常大，而且具有選擇性的吸附作用，所以可以用作催化劑。用.GIC作為催化劑, 成本低, 收率高, 且容易將反應控制在更加溫和的條件下進行。

當前主要瓶頸有兩點，一是低成本高品質(zhì)石墨烯原料的規(guī)?；a(chǎn)，二是石墨烯的商業(yè)化應用。有人可能覺得第  納米研磨分散機是由膠體一個已不是問題，因為已有多個十噸乃至百噸級產(chǎn)線投產(chǎn)，規(guī)?；此埔延卸?。事實真是如此嗎？除了產(chǎn)能，我認為更重要的是品質(zhì)，因為原料的品質(zhì)直接決定其應用屬性。對于實際應用，純度是否足夠高？批次穩(wěn)定性如何？成本是否還有壓縮空間？生產(chǎn)過程可否更綠色？技術(shù)的進步永無止境，可靠的原料永遠是石墨烯產(chǎn)業(yè)化的基石。

對于第二點，我想大家談的比較多了，這是產(chǎn)品出路和價值體現(xiàn)的問題，非常關(guān)鍵，但也很難。作為一種新材料，石墨烯的前十年屬于應用發(fā)散期，即大家認為石墨烯幾乎是**的，然后在不同領域嘗試應用，是在做加法。目前，我們已步入應用集中期，要開始做減法了，因為大部分潛在應用在實踐中被證實并無實用價值，或是技術(shù)上，或是商業(yè)上。在這個階段，產(chǎn)業(yè)鏈上下游的互動非常必要。我們必須面向用戶進行二次開發(fā)，去解決分散和成型等共性技術(shù)難題，讓石墨烯更接“地氣”。*終交給用戶的，不僅是高品質(zhì)的材料，還有配套的應用解決方案，也就是solution。

插層石墨研磨設備

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設備轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是目前國產(chǎn)設備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
    

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。