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亮光劑碳納米管研磨分散機(jī)，高剪切亮光劑碳納米管研磨分散機(jī)，亮光劑碳納米管研磨分散機(jī)，亮光劑膠體磨，亮光劑研磨機(jī)

主要作用表現(xiàn)在通過活性表面除去停留在金屬表面的油污、氧化及未氧化的表面雜質(zhì)，保持物體外部的潔凈、光澤度、色牢度。通過研磨作用影響外觀的質(zhì)感，提高拋光的效率。

碳納米管的應(yīng)用十分廣泛，不僅應(yīng)用于橡膠、工程塑料、合成樹脂等復(fù)合材料上用于提高材料應(yīng)力水平，還可用于導(dǎo)電材料，電磁屏蔽材料，鋰電池、燃料電池、膠體鉛酸電池的電極改性，以及新型高速光電傳感器 。

亮光劑碳納米管研磨分散機(jī)的分散效果 影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
 shsina定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
                             

亮光劑碳納米管研磨分散機(jī)高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是*重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，新浪公司在NK2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出NKD2000超剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。

亮光劑碳納米管研磨分散機(jī)技術(shù)參數(shù)

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。