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拉普拉斯低壓水平硼擴散設備 LRB430品牌
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設備的應用及特點：
應用
本設備適合156-210mm硅片生產，無傳統(tǒng)技術的搭片問題及其帶來的方阻均勻性問題，更高的方阻均勻性為客戶帶來更窄的效率分布和更高的電性能良率。更高的方阻均勻性為下一代高方阻工藝提供了可能，能幫助客戶進一步提升產品效率和競爭力。本設備采用氣態(tài)硼源，具有耗源量低和維護要求低的特點，運營成本為傳統(tǒng)技術的1/3。本設備具有行業(yè)內**產能，能幫助客戶降低固定資產投入和運營成本。
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