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            電鍍設備X
            電鍍設備X

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            型號

            電鍍設備X

            品牌

            盛美半導體

            產(chǎn)地

            美國

            樣本

            暫無
            盛美半導體設備(上海)股份有限公司

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            主要優(yōu)勢

            高速電鍍銅同時實現(xiàn)更好的均勻化控制

            水平式電鍍腔體,無交叉污染

            可單腔體維護,提高設備正常運行時間(up time)

            Rubber Seal 技術(shù), 更好的密封性能

            第二陽極技術(shù),更好地控制均一性

            靈活的工序控制


            特性和規(guī)格

            兼容8寸和12寸

            *多可配至3個Load Port

            *多可配至4種預濕腔體,真空控制

            *多可配至4 個清洗腔體

            *多可配至20個電鍍腔體: Cu,Sn/Ag, Ni

            設備尺寸: 2250 x 7100 x 2900 mm

            工藝性能:
            片內(nèi)均一性: <5% (**-*小/2 平均)
            片間均一性<3%
            重復性: <3%
            COP: < 10 μm


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            易用性

            10分

            性價比

            10分
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