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儀器簡介：電化學ECV，摻雜濃度檢測（C-V Profiling）PN結深測試

電化學ECV可以用于太陽能電池、LED等產(chǎn)業(yè)，是化合物半導體材料研究或開發(fā)的主要工具之一。

電化學ECV主要用于半導體材料的研究及開發(fā)，其原理是使用電化學電容-電壓法來測量半導體材料的摻雜濃度分布。

電化學ECV(CV-Profiler， C-V Profiler)也是分析或發(fā)展半導體光-電化學濕法蝕刻(PEC Etching)很好的選擇。

本設備適用于評估和控制在半導體生產(chǎn)中的外延過程并且以被使用在多種不同的材料上，　例如：Silicon， Germanium， III-V including III-Nitrides.

CVP 21 的凈室和模塊化的系統(tǒng)設計結構使得本系統(tǒng)可以高效率，準確的測量半導體材料（結構，層）中的摻雜濃度分布．選用合適的電解液與材料接觸，腐蝕，從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過程由軟件全自動控制

CVP21的系統(tǒng)特點

- 堅固可靠的模塊化系統(tǒng)結構 ．光學，電子和化學部分相對獨立．

- 精確的測量電路模塊;

- 強力的控制軟件，系統(tǒng)操作，使用簡便;

- 完善的售后服務;

提供免費樣品測試并提供測試報告。

保修期：2年，終身維修。

對用戶承諾終身免費樣品測試每月1次。

技術參數(shù)：

產(chǎn)品**結合我們在電化學方分布測試方面超過３０年的經(jīng)驗和世界上***的電路系統(tǒng)?！?

全自動，　特別適用于新材料，　如氮化鎵，　碳化硅材料等?！?

有效檢測:

- 外延材料

- 擴散

- 離子注入

適用材料: CVP21應用范圍寬，可以用于絕大多數(shù)的半導體材料。

- IV族化合物半導體如：硅(Si)、鍺(Ge)、碳化硅(SiC)等…

- III-V族化合物半導體如：砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)、磷化鎵(GaP)等…

- 三元III-V族化合物半導體如：鋁鎵砷(AlGaAs)、鎵銦磷(GaInP)、鋁銦砷(AlInAs)等…

- 四元III-V族化合物半導體如：鋁鎵銦磷(AlGaInP)等…

- 氮化物如：氮化鎵(GaN)、鋁鎵氮(AlGaN)、銦鎵氮(InGaN)、鋁銦氮(AlInN)等…

- II-VI族化合物半導體如：氧化鋅(ZnO)、碲化鎘(CdTe)、汞鎘碲(HgCdTe)等…

- 其他不常見半導體材料(可以聯(lián)系我們進行樣品測量)。

載流子濃度測量范圍:

- ** 10²¹/cm3

- *小 10¹¹/cm3

深度解析度:

- **無上限

- *小可至1 nm（或更低）

模塊化系統(tǒng)結構:

- 拓撲型結構

- 實時監(jiān)控腐蝕過程

- 適于微小樣品及大尺寸的晶圓

全自動化系統(tǒng):

主要特點：

CVP21電化學ECV是半導體載流子濃度分布**的解決方案：

1， CVP21應用范圍寬，可以用于絕大多數(shù)的半導體材料。

* IV族化合物半導體如：硅(Si)、鍺(Ge)、碳化硅(SiC)等…

* III-V族化合物半導體如：砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)、磷化鎵(GaP)等…

* 三元III-V族化合物半導體如：鋁鎵砷(AlGaAs)、鎵銦磷(GaInP)、鋁銦砷(AlInAs)等…

* 四元III-V族化合物半導體如：鋁鎵銦磷(AlGaInP)等…

* 氮化物如：氮化鎵(GaN)、鋁鎵氮(AlGaN)、銦鎵氮(InGaN)、鋁銦氮(AlInN)等…

* II-VI族化合物半導體如：氧化鋅(ZnO)、碲化鎘(CdTe)、汞鎘碲(HgCdTe)等…

* 其他不常見半導體材料(可以聯(lián)系我們進行樣品測量)。

2， CVP21可用于不同形態(tài)的樣品：多層結構的薄膜材料、基底沒有限制(基底導電或絕緣均可)、標準樣品尺寸從4*2mm ~ 8英寸晶圓(更小尺寸樣品請預先咨詢我們)。

3， CVP21擁有很好的分辨率范圍。

* 載流子濃度分辨率范圍從< 1012 cm-3 ~ > 1021 cm-3

* 深度分辨率范圍從1nm ~ 100um (依樣品類型、樣品質量決定)

4， CVP21是一套完整的電化學ECV測量系統(tǒng)。

* 系統(tǒng)可靠性高(儀器的電子、機械、光學、液體傳動幾個主要部分均經(jīng)特殊設計)

* 免校準的系統(tǒng)(完全自校準的電子系統(tǒng)，電纜電容均無須用戶再次校準)

* 易于使用(全用戶管理軟件優(yōu)化，在實驗室環(huán)境或生產(chǎn)環(huán)境均易于使用)

* 照相機鏡頭控制(過程在線由彩色照相機鏡頭控制；每次測量后，鏡頭數(shù)據(jù)均可取出。)

* 實驗菜單(測量菜單預定義，優(yōu)先權用戶可以很容易修改或改進測量菜單)

* Dry-In/Dry-Out: Auto-Load/Unload/Reload (電化學樣品池自動裝載/卸載/再裝載，優(yōu)先權用戶易于修改，進行樣品dry-in/dry-out處理。)