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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

CB500是美國(guó)NANOVEA公司推出的一款低價(jià)格微納米力學(xué)綜合測(cè)試系統(tǒng)，該系統(tǒng)聚納米壓痕儀、納米劃痕儀、微米壓痕儀、微米壓痕儀四個(gè)功能模塊于一身，這款儀器采用模塊化設(shè)計(jì)，可在一款儀器下實(shí)現(xiàn)納米與微米/大載荷三個(gè)尺度下的壓痕，劃痕與摩擦磨損測(cè)試，進(jìn)而可得到硬度、彈性模量、蠕變信息、彈塑性、斷裂韌度、應(yīng)力-應(yīng)變曲線、膜基結(jié)合力、劃痕硬度、摩擦系數(shù)、磨損率等微觀力學(xué)數(shù)據(jù)。

產(chǎn)品特性：

- 模塊化設(shè)計(jì)：可在一臺(tái)儀器集成納米壓痕儀、納米劃痕儀、微米壓痕儀、微米劃痕儀4款儀器。

-壓痕測(cè)試完全符合國(guó)際ISO14577與美國(guó)ASTM E2546標(biāo)準(zhǔn)，劃痕測(cè)試完全符合ISO 20502、1518、ASTM

D7027、D1624、D7187、C171標(biāo)準(zhǔn)。

- 載荷加載系統(tǒng)：采用閉環(huán)載荷加載垂直加載，準(zhǔn)確性遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)的開(kāi)環(huán)載荷加載技術(shù)及懸臂加載技術(shù)，可保證施加載荷的精準(zhǔn)性。

- 載荷驅(qū)動(dòng)方式：高精度壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)，精度遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于電磁力驅(qū)動(dòng)。

- NANOVEA**技術(shù)（**號(hào)：EP0663068 A1 1995）高精度電容式傳感器來(lái)能夠保證系統(tǒng)夠?qū)崿F(xiàn)高精度的測(cè)量可保證壓入深度與劃入深度實(shí)時(shí)測(cè)量。

- 采用encoder高精度光柵尺樣品臺(tái)，定位精度可達(dá)250nm以內(nèi)。

-獨(dú)特的熱飄逸控制技術(shù)：納米壓痕儀的熱飄逸為<0.05nm/s，同時(shí)通過(guò)專業(yè)的硬度測(cè)試軟件，利用熱飄逸補(bǔ)償技術(shù)可將熱飄逸總量控制在1nm以內(nèi)；另外，儀器采用立式結(jié)構(gòu)，電子單元在左右兩邊，熱量往上漂不會(huì)對(duì)電子單元產(chǎn)生影響，從而得到非常小的熱漂移。

- 劃痕具有全景成像模式

- NANOVEA公司**金剛石面積函數(shù)校準(zhǔn)技術(shù)（**號(hào)：No. 3076153）只需要壓一次就可以對(duì)針尖面積函數(shù)進(jìn)行校準(zhǔn)實(shí)現(xiàn)精確測(cè)量?。?！

主要技術(shù)參數(shù)：

1）納米壓痕儀：

— 靜態(tài)加載模式**加載載荷：80mN /400mN/1800mN/4800mN

— 動(dòng)態(tài)加載模式DMA:0.1-100Hz

— 載荷分辨率：3nN

— 可實(shí)現(xiàn)的*小載荷：0.1mN

— 加載速率：0.04-12000mN/min

— **壓入深度（電容傳感器）： 250μm/1mm

— 位移分辨率：0.0003nm

— 快速壓痕功能：做100個(gè)mapping點(diǎn)只需5分鐘

— 熱飄逸<0.05nm/s(室溫條件下)

2）納米劃痕儀：

— 劃痕正向力**載荷：80mN /400mN/1800mN/4800mN

— 載荷分辨率：3nN

— 劃痕正向力*小載荷：0.1mN

— **劃痕深度：250μm/1mm

— **劃痕長(zhǎng)度：50mm

— 劃痕速度：0.05-600mm/min

— 位移分辨率：0.0003nm

— **深度：250μm/1mm

— 深度分辨率：0.0003nm

— **摩擦力：400mN/1800mN

— 摩擦力分辨率：7μN

3）微米壓痕儀：

— **加載載荷：40N/200N

— 載荷分辨率：2.4μN /12μN

— 載荷噪聲水平（RMS）：0.1mN/0.5mN

— 可實(shí)現(xiàn)的*小載荷：2mN/10mN

— 加載速率：0.01-500N/min / 0.05-1000N/min

— 快速壓痕功能：做100個(gè)mapping點(diǎn)只需12分鐘

— 深度范圍（電容式傳感器）：1mm

— 深度分辨率：0.01nm

— 深度分噪聲水平（RMS）: 0.5nm

4）微米劃痕儀：

— 劃痕正向力**載荷：40N/200 N

— 劃痕正向力*小載荷：2mN/10mN

— **劃痕深度：1mm

— 深度分辨率：0.01nm

— 深度分噪聲水平（RMS）: 0.5nm

— **劃痕長(zhǎng)度：50mm

— 劃痕速度：0.1-1200mm/min

— **摩擦力：20N/200N

— 摩擦力分辨率：1.3mN/13mN

5）精密定位平臺(tái)：

— XY方向移動(dòng)范圍：100mm*50mm

— Z方向允許的**樣品空間：150mm

— 工作臺(tái)XY方向定位分辨率：10nm

— 工作臺(tái)XY方向定位精度：250nm

— Z方向可自動(dòng)移動(dòng)移動(dòng)范圍：50mm

6）光學(xué)金相顯微鏡成像系統(tǒng)：

— 物鏡的放大倍率分別為：5X，10X，20X，50X，1000X

— 總的放大倍率分別為：400X，800X，1600X，4000X，8000X，

7）原子力顯微鏡AFM的技術(shù)參數(shù)（高分辨率）：

— XYZ方向**掃描范圍：100μm *100μm *12μm

— XY方向移動(dòng)分辨率：0.1nm

— Z方向的測(cè)量分辨率：0.02nm