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石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度，而目前成熟的傳統(tǒng)半導(dǎo)體刻蝕系統(tǒng)在面對(duì)單層材料的高精度刻蝕需求時(shí)顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的等離子刻蝕系統(tǒng)功率較大、難以精細(xì)控制的問(wèn)題，Moorfield Nanotechnology與曼徹斯特大學(xué)諾獎(jiǎng)得主Andre Geim課題組聯(lián)合研發(fā)了臺(tái)式超精準(zhǔn)二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)- nanoETCH。與傳統(tǒng)的刻蝕方案相比，nanoETCH在石墨烯和2D材料的關(guān)鍵加工中表現(xiàn)出了很高的性能。該系統(tǒng)對(duì)輸出功率的分辨率可到達(dá)毫瓦量級(jí)，對(duì)二維材料可實(shí)現(xiàn)超精準(zhǔn)的逐層刻蝕，也可實(shí)現(xiàn)對(duì)二維材料進(jìn)行層內(nèi)缺陷制造，還可對(duì)石墨基材等進(jìn)行表面處理。該系統(tǒng)性能已經(jīng)在劍橋大學(xué)石墨烯中心、曼徹斯特大學(xué)、英國(guó)國(guó)家石墨烯中心、西班牙光子科學(xué)研究所等諸多用戶(hù)實(shí)驗(yàn)室得到驗(yàn)證。

該系統(tǒng)可刻蝕3英寸或更大尺寸的樣品，樣品放置在專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的樣品臺(tái)上，低功率毫瓦級(jí)精細(xì)控制的射頻單元提供高精度的刻蝕功率，分子泵高真空系統(tǒng)可確保樣品免受污染。

應(yīng)用方向舉例：

石墨基材的處理：表面處理，更有利于剝離出大面積的石墨烯

微納刻蝕：去除石墨烯，對(duì)其他區(qū)域無(wú)損傷

缺陷加工：在石墨烯層中制造點(diǎn)缺陷

主要特點(diǎn)：

◎ 軟刻蝕功率：<30w 高精度射頻源

◎ MFC-流量計(jì)控制

◎ 3英寸、6英寸樣品臺(tái)

◎ 全自動(dòng)觸屏操作系統(tǒng)

◎ 設(shè)定、保存多個(gè)刻蝕程序

◎ 可連接電腦記錄數(shù)據(jù)

◎ 本底真空<5×10^-7 mbar

◎ 易于維護(hù)

◎ 完備的安全性設(shè)計(jì)

◎ 兼容超凈室

◎ 穩(wěn)定的性能表現(xiàn)

系統(tǒng)選件：

◎ 機(jī)械泵類(lèi)型可選

◎ 腔體快速充氣

◎ 超高精度射頻源控制

◎ 高精度氣壓控制

◎ 增加過(guò)程氣體

用戶(hù)單位：