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真空鍍膜設(shè)備（CVD/PVD）主要用于薄膜沉積工藝，是一連串涉及原子的吸附，吸附原子在表面的擴(kuò)散及在適當(dāng)?shù)奈恢孟戮劢Y(jié)，在晶圓上沉積一層待處理的薄膜的過(guò)程。
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