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            柔性電路板在線(xiàn)式等離子表面處理機(jī)
            柔性電路板在線(xiàn)式等離子表面處理機(jī)

            參考價(jià)格

            1-5萬(wàn)元

            型號(hào)

            CRF-VPO-2L-S

            品牌

            誠(chéng)峰智造

            產(chǎn)地

            廣東深圳

            樣本

            暫無(wú)
            深圳市誠(chéng)峰智造有限公司

            會(huì)員

            |

            第4年

            |

            生產(chǎn)商

            工商已核實(shí)

            留言詢(xún)價(jià)
            核心參數(shù)
            • 能耗:

              1000W/40KHz
            • 處理量:

              不限
            • 物料類(lèi)型:

              其它
            • 工作原理:

              其他
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            柔性電路板在線(xiàn)式等離子表面處理機(jī):誠(chéng)峰智造


            真空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-2L-S


            名稱(chēng)(Name)


            真空式等離子處理系統(tǒng)


            型號(hào)(Model)


            CRF-VPO-2L-S

            16-1-1.jpg

            控制系統(tǒng)(Control system)


            PLC+觸摸屏


            電源(Power supply)


            380V/AC,50/60Hz, 3kw


            中頻電源功率(RF Power)


            1000W/40KHz


            容量(Volume )


            10L(Option)


            層數(shù)(Electrode of plies )


            2(Option)


            腔體規(guī)格(Area)


            220(W)*230(D)*230(H)


            氣體通道(Gas)


            兩路工作氣體可選:Ar、N2、CF4、O2


            產(chǎn)品概述

            設(shè)備參數(shù)

            產(chǎn)品特點(diǎn)

            超大處理空間,提升處理產(chǎn)能,采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行;

            可按照客戶(hù)要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿(mǎn)足客戶(hù)的需求;保養(yǎng)維修成本低,便于客戶(hù)成本控制;

            高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能和專(zhuān)業(yè)的技術(shù)支持。

             

            應(yīng)用范圍

            真空等離子清洗機(jī)適用于印制線(xiàn)路板行業(yè),半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域,汽車(chē)電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線(xiàn)路板行業(yè):高頻板表面活化,多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污,軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域:COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線(xiàn)、焊接前的清洗;硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。


            電漿是物質(zhì)的第四態(tài),是一種獨(dú)特的處理介質(zhì),用于處理和粗化表面。電漿表面處理設(shè)備具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì),它與表面相互作用的特點(diǎn)和適用范圍如下。

            電漿表面處理設(shè)備具有表面處理的優(yōu)點(diǎn),工藝的靈活性和一致性,低成本,使用方便,用戶(hù)和環(huán)境安全。根據(jù)所用的加工氣體和材料類(lèi)型,電漿表面會(huì)發(fā)生不同的相互作用。

            各種等離子體處理氣體可用于化學(xué)和機(jī)械污染物的去除,氧化,激活,交聯(lián)和沉積。

            電漿表面處理設(shè)備性能:

            什么是電漿,它是如何產(chǎn)生和維持的,以及它是如何與物質(zhì)表面相互作用的。電漿中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性顆粒作用于固體樣品表面,不僅能去除表面原有的污染物和雜質(zhì),還能起到腐蝕作用,使樣品表面變粗糙,形成許多細(xì)小凹陷,使樣品的比表面積增大。改善固體表面的潤(rùn)濕性。

            電漿成形利用電容板或磁感應(yīng)在氣體區(qū)域產(chǎn)生RF振蕩電場(chǎng)。

            電子的電場(chǎng)加速以及在足夠低的壓力下對(duì)中性原子或場(chǎng)線(xiàn)的彈性散射的聯(lián)合作用,使電子受熱。中性氣體中的電子獲得超過(guò)電離閾的動(dòng)能時(shí),電子的中性碰撞導(dǎo)致進(jìn)一步電離,從而產(chǎn)生額外的自由電子,這些電子被依次加熱。

            電漿表面的相互作用:

            電漿表面處理設(shè)備工藝中的電子和離子的能量足以電離中性原子,使分子分離,形成反應(yīng)性自由基,使原子或分子產(chǎn)生激發(fā)態(tài),并對(duì)表面進(jìn)行局部加熱。

            取決于工藝氣體和工藝參數(shù),等離子體可通過(guò)機(jī)械作用、電子和離子動(dòng)態(tài)遷移與表面的腐蝕效應(yīng),以及化學(xué)反應(yīng)功,使自由基與表面發(fā)生反應(yīng)。

            一般而言,等離子體可以通過(guò)幾種機(jī)制作用并清洗表面:蝕刻、活化、沉積、交聯(lián)和接枝等離子體表面。


            電漿表面處理設(shè)備優(yōu)勢(shì):

            作用于材料表面作用:電漿等離子體處理只影響材料的近表面,對(duì)材料的塊狀性質(zhì)沒(méi)有影響。與許多濕洗工藝不同的是,電漿等離子清洗不會(huì)留下有機(jī)殘留物;在適當(dāng)?shù)臈l件下,等離子清洗可完全除去污染物,從而產(chǎn)生“原子潔凈”的表面。不像水洗溶液,等離子體不受表面張力的限制,能清潔粗糙、多孔或不平整的表面。在近環(huán)境溫度下進(jìn)行等離子體處理,可減少對(duì)熱敏材料的破壞。

            電漿表面處理設(shè)備工藝具有一定的靈活性和一致性,根據(jù)工藝氣體和使用情況,等離子處理可用于表面特性的清潔,激活,清洗和改性變化。等離子體會(huì)與多種材料發(fā)生反應(yīng),因此,等離子體還能處理由不同材料制成的元件。


            1、價(jià)格低廉/容易使用

            2、電漿處理效率高,處理時(shí)間短,無(wú)干燥階段,能耗低。

            3、等離子體處理可以幫助避免熱損失和溶劑損壞造成的過(guò)程損失。

            4、等離子體處理比化學(xué)或機(jī)械加工更容易使用和維護(hù),而且無(wú)需復(fù)雜的化學(xué)分析或維護(hù)。

            5、電漿處理通常不需要溶劑,也不需要不斷購(gòu)買(mǎi)和加工溶劑。

            6、采用電漿等離子工藝,提高了使用者和環(huán)境的安全性。

            7、等離子技術(shù)可消除工人與危險(xiǎn)化學(xué)品接觸的安全風(fēng)險(xiǎn)。

            8、電漿等離子體處理在接近環(huán)境溫度條件下進(jìn)行,不會(huì)產(chǎn)生安全問(wèn)題。

            9、可以處理復(fù)雜幾何形狀的三維零件。


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            10分

            售后服務(wù)

            10分

            易用性

            10分

            性?xún)r(jià)比

            10分
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            技術(shù)文章
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