參考價格
1-5萬元型號
CRF-APO-500W-XN品牌
誠峰智造產地
廣東深圳樣本
暫無能耗:
10KW(Max)/40KHz處理量:
不限物料類型:
其它工作原理:
其他看了光學薄膜等離子清洗機的用戶又看了
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
光學薄膜等離子清洗機:誠峰智造
全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-XN
名稱(Name)
全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)
型號(Model)
CRF-APO-500W-XN
電源(Power supply)
380V/AC,50/60Hz
等離子功率(Plasma power)
10KW(Max)/40KHz(Option)
有效處理寬幅(Processing width)
120mm-1200mm(Option)
有效處理高度(Processing height)
3mm~8mm(Max)
處理速度(Processing speed)
0-8m/min
工作氣體(Gas)
N2/N2+CDA
產品特點: 內置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設備的使用壽命和性能;
靈活On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達10eV以上,
材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。
應用范圍:應用于FPC&PCB表面處理,復合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領域的表面處理。
半導體封裝行業(yè),包括集成電路、分立器件、傳感器和光電子的封裝,通常會用到銅材質的引線框架,為了提高鍵合和封塑的可靠性,一般會把銅支架經過幾分鐘的等離子清洗機處理,來清除表面的有機物、污染物,增加其表面的可焊性和粘接性。
有的時候我們會發(fā)現(xiàn),銅支架在等離子清洗機的真空環(huán)境下如果處理不當,容易出現(xiàn)表面變色和發(fā)黑,嚴重的甚至是出現(xiàn)燒板等現(xiàn)象。難道是因為腔體里面的空氣沒有抽干凈嗎?殘余空氣中氧分子被激發(fā),形成的氧等離子體與銅表面發(fā)生化學反應而形成氧化銅的結果?原因真的就這么簡單嗎?誠峰智造資深工程師結合多年的等離子清洗銅支架的實踐經驗,與大家一起分析一下。
1 等離子清洗機真空度影響銅支架清洗效果和變色
等離子清洗機真空度關聯(lián)因素包括真空腔體漏率、背底真空、真空泵的抽速和工藝氣體的進氣流量等。真空泵抽速越快,背底真空值越低,說明里面殘留的空氣就越少,銅支架與空氣里面的氧等離子體反應的機會就會越少;當工藝氣體進入,形成的等離子體可以充分地與銅支架發(fā)生反應,沒有被激發(fā)的工藝氣體可以把反應物輕松帶走,銅支架清洗效果會好,不容易變色。
2 等離子清洗機電源功率對銅支架清洗效果和變色的影響
等離子清洗機電源功率關聯(lián)因素包括能量功率大小和單位功率密度。電源功率越大,等離子體能量就越高,對銅支架的表面轟擊力就越強;同等功率的情況下,處理的銅支架越少,單位功率密度就會越大,清洗的效果就會越好,但有可能會造成能量過大,板面變色或者燒板。
等離子清洗機的等離子電場分布關聯(lián)因素包括電極結構、氣體流向和銅支架的擺放位置等相關。不同處理材料、工藝需要以及產能要求,對電極結構的設計是不一樣的;因此氣體流向會形成一個氣場,對等離子體的運動、反應、均勻性都會有影響;銅支架的擺放位置,會影響到電場和氣場特性,導致能量分配不均衡,局部等離子密度過大而燒板。
實踐證明了等離子清洗機的處理時間、電源頻率、包括載具類型等都會對銅支架的處理效果和變色也是有影響的。
說到等離子處理設備,廢氣處理用的等離子光解凈化器、金屬焊接切割用的等離子弧焊機、產品材料表面處理用的等離子清洗機都是屬于等離子處理設備的一種,你對等離子清洗機處理有所了解嗎?有沒有廢氣廢水產生呢?說其更環(huán)保和安全有沒有道理?
等離子清洗機是專門用于材料和產品的表面處理及改性處理的等離子處理設備,氣體輝光或亞輝光放電的方式產生等離子體,可實現(xiàn)不同的處理目的。通常所常見的等離子清洗機有兩種,一種是低壓真空等離子表面處理設備,一種是常壓大氣等離子表面處理設備,下圖分別為真空和大氣型的等離子清洗機。
與濕法的化學處理工藝不同,等離子清洗機處理是一種干式處理工藝,如何理解呢?簡單來說,等離子清洗機所使用的通常都是氣體,且為常見的氧氣、氮氣、壓縮空氣等氣體,不需要使用有機化學溶液,而且處理所產生的大多也是二氧化碳等無害氣體,正因反應物和產生物都為氣體,也就不需要進行烘干、廢水處理,因此說等離子清洗機處理沒有廢氣廢水是可以實現(xiàn)的。
等離子清洗機處理更加環(huán)保安全?從反應物和產生物來看,確實更加環(huán)保和節(jié)約能源,而且從工藝來看,工藝也更加簡單安全,另外就日常處理成本來看,僅需少量用電和耗材維保費用。
靈活On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達10eV以上,
材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。
應用范圍:應用于FPC&PCB表面處理,復合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領域的表面處理。