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            SYDC-300型浸漬提拉鍍膜機(jī)
            SYDC-300型浸漬提拉鍍膜機(jī)

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            面議

            型號

            SYDC-300

            品牌

            三研

            產(chǎn)地

            上海

            樣本

            暫無
            上海三研科技有限公司.

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            SYDC-300型浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) 提拉機(jī) Dip Coater 是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計,對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。

            SYDC-300型浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) 提拉機(jī) Dip Coater


            一.    產(chǎn)品應(yīng)用

            本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中,通過預(yù)先設(shè)置參數(shù),將浸漬后的基片以一定速度慢慢提拉起來,在基片上附著一層膜,稱為 “濕凝膠膜,隨著濕凝膠膜膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為干凝膠膜干凝膠膜經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。

            提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。

            適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面鍍膜。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

            二.    產(chǎn)品特點(diǎn)

            1.     采用伺服電機(jī)驅(qū)動,配合德國原裝進(jìn)口的垂直提拉裝置和程序控制系統(tǒng),確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性; 伺服電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)時的高精度、平滑性、無抖動等特點(diǎn)是步進(jìn)電機(jī)不可比擬的。

            2.     *新升級為德國原裝進(jìn)口的垂直提拉裝置部件,采用特種功能材料制作,具有精密度高、傳動無間隙、運(yùn)行平滑、耐腐蝕、終身免維護(hù)、使用壽命長等特點(diǎn)。

            3.     采用箱體式設(shè)計,鍍膜溶液及樣品均置于密閉箱體內(nèi),避免外界環(huán)境的干擾;前門及側(cè)面采用透明玻璃,便于觀察鍍膜過程;

            4.     多參數(shù)全自動程序控制。共有六個參數(shù)設(shè)置:下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時間,各參數(shù)均連續(xù)可調(diào),精密控制。鍍膜程序設(shè)定后,從下降到浸漬,再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運(yùn)行。

            5.     可全自動運(yùn)行鍍膜,也可進(jìn)入手動操作模式鍍膜;

            6.     7英寸觸摸屏控制。運(yùn)行時,各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時顯示,更直觀了解鍍膜進(jìn)程;

            7.     高、低速均運(yùn)行平穩(wěn),工作時液面無振動,使成膜更均勻;

            8.     標(biāo)配3個夾具夾持基片,更牢固更穩(wěn)定。夾具夾口兩面都有一層橡膠墊,不會夾壞基片。

            三.     技術(shù)參數(shù)

            1.     提拉速度范圍:110000 μm/s,*小分辨率1 μm/s

            2.     速度精度:-0.01%+0.01%;

            3.     *大行程:約370 mm(以實(shí)際為準(zhǔn));

            4.     適用基片尺寸:MIN 10×10 mmMAX 300×300 mm,厚度 MAX 10mm

            5.     浸漬時間:13600 s,*小分辨率1s;

            6.     循環(huán)鍍膜次數(shù):11000次,*少1次;

            7.     循環(huán)間隔時間:13600 s,*小分辨率1s

            8.     電源:220V/50Hz



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