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            控溫型浸漬提拉鍍膜機
            控溫型浸漬提拉鍍膜機

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            面議

            型號

            SYDC-200H

            品牌

            產地

            樣本

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            上海三研科技有限公司.

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            第8年

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            SYDC-200H控溫型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機  Dip  Coater“是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料而設計,對不同液體在恒溫箱體中通過浸漬提拉生長薄膜。恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調、精密控制。對鍍膜基質無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、液面無振動,可極大提高實驗精度與實驗效率。

            一.     產品簡介  

            控溫型浸漬提拉鍍膜機,主要用于在一定溫度下進行提拉鍍膜的情況。把潔凈干燥的基片浸入溶液(溶膠)中,通過預先設置的參數,將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜,稱為濕凝膠膜,隨著濕凝膠膜膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為干凝膠膜。干凝膠膜經過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。  

            恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調、精密控制。對鍍膜基質無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可極大提高實驗精度與實驗效率。  

            適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產品生產。  

            三.     產品特點  

            1.     精密的垂直提拉裝置。**升級為德國原裝進口的垂直提拉裝置部件,采用特種功能材料制作,具有精密度高、傳動無間隙、運行平滑、耐腐蝕、終身免維護、使用壽命長等特點。  

            2.     采用伺服電機驅動。配合德國原裝進口的垂直提拉裝置和程序控制系統(tǒng),確保運行精度及穩(wěn)定性; 伺服電機運轉時的高精度、平滑性、無抖動等特點是步進電機不可比擬的。  

            3.     多參數全自動程序控制。共有六個參數設置:下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數、鍍膜間隔時間,各參數均連續(xù)可調,精密控制。鍍膜程序設定后,從下降到浸漬,再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。  

            4.     鍍膜系統(tǒng)采用7英寸液晶觸摸屏使控制更方便;運行時,各項參數實時顯示,更直觀了解鍍膜進程;  

            5.     可設置多段程序控溫。精密控溫,溫度均勻性高。整個鍍膜過程在恒溫溫度場內進行,恒溫場溫度控制系統(tǒng)采用LCD液晶顯示。  

            6.     上下兩端均安裝有限位傳感器,提拉或下降運行時,到限位處自動停止,避免提拉或下降的超限運行。  

            7.     高、低速均運行平穩(wěn),運行連續(xù)、平滑。鍍膜時液面無振動,使成膜更均勻;  

            8.     特殊設計的平口型夾具,兩面均勻夾持樣片,不會夾壞樣片;  

            四.     技術參數  

            1.     提拉速度范圍:18000 μm/s,*小分辨率1μm/s;  

            2.     適用基片尺寸:MIN 5×5 mm,MAX 200×200 mm,厚度MAX 10mm;  

            3.     浸漬時間:13600 s,*小分辨率1s;  

            4.     鍍膜次數:11000次,*少1次;  

            5.     每次鍍膜間隔時間:13600 s,*小分辨率1s;  

            6.     恒溫溫度:RT+10200℃,溫度分辨率0.1℃  

            7.     溫度波動度:≤±0.5℃;  

            8.     恒溫場內尺寸:450×550×550 mmW×D×H);  

            9.     電源:220V/50Hz   

            創(chuàng)新點

            恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調、精密控制。對鍍膜基質無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可極大提高實驗精度與實驗效率。

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            10分

            售后服務

            10分

            易用性

            10分

            性價比

            10分
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