表面修飾層厚度對(duì)Fe:ZnSe納米晶光學(xué)性能的影響

編號(hào)：NMJS03163

篇名：表面修飾層厚度對(duì)Fe:ZnSe納米晶光學(xué)性能的影響

作者：謝瑞士； 劉凌云； 李園利； 肖定全； 朱建國(guó)；

關(guān)鍵詞：Fe:ZnSe； 納米晶； 無機(jī)表面修飾； 光學(xué)性能；

機(jī)構(gòu)： 四川大學(xué)；

摘要： 利用硫代乙醇酸作為穩(wěn)定劑在水相中合成了Fe:ZnSe/ZnS核/殼結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體納米晶,研究了表面修飾層(殼層)厚度對(duì)產(chǎn)物光學(xué)性能的影響。XRD和UV-Vis吸收譜表明,合成的半導(dǎo)體納米晶為核殼納米晶,呈立方閃鋅礦結(jié)構(gòu)。TEM結(jié)果表明,產(chǎn)物分散性較好,尺寸均一,呈球形。PL結(jié)果表明,適當(dāng)厚度的ZnS殼層能有效鈍化Fe:ZnSe納米晶表面的非輻射復(fù)合位點(diǎn),當(dāng)殼層過厚時(shí),ZnS殼層產(chǎn)生的非輻射復(fù)合缺陷會(huì)導(dǎo)致PL強(qiáng)度下降。