一種應用于納米測量機的高精度干涉儀

編號：CSJS00068

篇名：一種應用于納米測量機的高精度干涉儀

作者：王霽； 朱振宇； 李華豐；

關鍵詞：納米測量； 光外差干涉儀； 光程差(OPD)； 等光程； 相位差；

機構： 中國航空工業(yè)集團公司北京長城計量測試技術研究所；

摘要： 為實現(xiàn)納米三坐標測量機(NMM)中大范圍高精度位移的測量(測量范圍小于40mm,分辨率小于0.1nm),研制了一種大量程納米級測量精度的實用化外差干涉儀,并對該干涉儀的光學結(jié)構進行分析研究。該系統(tǒng)不但克服了雙頻激光干涉儀混頻的固有缺點,而且在結(jié)構上利用光學器件的偏振特性,使系統(tǒng)具有共光路、等光程、光學倍程和相位差成90°正交信號等特點,提高了系統(tǒng)分辨率、抗干擾性能和精度。該系統(tǒng)在40mm的測量范圍內(nèi),具有λ/4 096的分辨率和納米級的測量精度。實驗結(jié)果表明,納米三坐標測量機對樣板1次安裝10次測量的實驗標準差為4.9nm,10次安裝10次測量的實驗標準差為8.4nm,具有較好的測量重復性。干涉儀結(jié)構符合三坐標的測量要求,可安裝在納米三坐標測量機等儀器中,也可用于高精度的位移測量。