離子液體[EMIM][PF_6]負載納米SiO_x表面的熔點及結(jié)構(gòu)

編號：NMJS03055

篇名：離子液體[EMIM][PF_6]負載納米SiO_x表面的熔點及結(jié)構(gòu)

作者：劉玉勝； 付海英； 唐忠鋒； 黃衛(wèi)； 吳國忠；

關(guān)鍵詞：納米SiO_x； 離子液體； 熔點； 相變；

機構(gòu)： 中國科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所； 徐州工程學(xué)院；

摘要： 制備了離子液體（1-乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸[EMIM][PF6]）負載量不同的孔納米氧化硅（SiOx）,并采用差式掃描量熱分析（DSC）、X射線衍射（XRD）、激光Raman光譜、傅里葉變換紅外（FTIR）光譜分析等手段研究離子液體負載納米氧化硅后的熔點變化及相行為.研究表明負載于納米氧化硅表面的離子液體熔點明顯下降,且負載于不同表面羥基含量的氧化硅表面熔點下降幅度不同。純離子液體[EMIM][PF6]熔點為62℃,在納米氧化硅表面負載量為35%時熔點為52℃,比負載前下降10℃;負載于另兩種不同羥基含量的納米氧化硅表面后熔點分別下降20和17℃.而同一種納米氧化硅(比表面積為640 m2·g-1)和負載量小于50%時,熔點下降明顯;進一步增大負載量,熔點逐漸趨于本體.XRD和Raman光譜分析顯示,離子液體負載于氧化硅表面后基衍射峰或吸收峰相對強度發(fā)生明顯改變,分析負載前后納米氧化硅的結(jié)構(gòu)變化,推斷離子液體熔點下降的主要原因是離子液體分子與納米氧化硅表面之間存在強烈的界面相互作用,而表面羥基的密度及比表面積是影響負載后[EMIM][PF6]離子液體相行為的主要因素.