復(fù)合鐵氰化鎳膜電極分離溶液中Cs~+初步研究

編號：FTJS03214

篇名：復(fù)合鐵氰化鎳膜電極分離溶液中Cs~+初步研究

作者：李永國； 丘丹圭； 侯建榮； 郝曉剛； 孔海霞； 史英霞；

關(guān)鍵詞：毛細(xì)化學(xué)沉積法； 電控離子分離； NiHCF薄膜； 循環(huán)伏安法；

機構(gòu)： 中國輻射防護(hù)研究院； 太原理工大學(xué)化工學(xué)院；

摘要： 在石墨-碳纖維-鎳網(wǎng)復(fù)合多孔基體上通過毛細(xì)化學(xué)沉積法合成制備具有電控離子分離性能的鐵氰化鎳(Nickel Hexacyanoferrate,NiHCF)薄膜。采用循環(huán)伏安法(CV)考察了復(fù)合薄膜電極的離子交換容量、循環(huán)壽命、選擇性與再生能力,并通過X射線能譜(Energy dispersive X-ray spectroscopy,EDS)分析了膜電極組成。實驗結(jié)果表明:該復(fù)合NiHCF膜電極對Cs+具有良好的選擇性、循環(huán)穩(wěn)定性與再生能力;離子分離能力為80~100 mA/g、擴散阻力(氧化還原峰偏移)0.31 V。