NiAl(110)和Cu-Al(111)合金表面生長超薄氧化鋁膜的疇界和厚度的STM研究

編號：FTJS02984

篇名：NiAl(110)和Cu-Al(111)合金表面生長超薄氧化鋁膜的疇界和厚度的STM研究

作者：張云； 于迎輝； 吳萍； 秦志輝； 曹更玉；

關(guān)鍵詞：超薄氧化鋁膜； 超高真空掃描隧道顯微術(shù)； 疇界； 厚度；

機構(gòu)： 中國科學(xué)院武漢物理與數(shù)學(xué)研究所波譜與原子分子物理國家重點實驗室； 中國科學(xué)院研究生院；

摘要： 利用低溫超高真空掃描隧道顯微術(shù)研究了在NiAl(110)和Cu-Al(111)合金襯底上氧化生長的超薄氧化鋁膜的疇界和厚度。在這兩種氧化鋁薄膜上均觀察到兩種不同類型的疇界:反相疇界(antiphase domain boundary)和反射疇界(reflection domain boundary)。結(jié)果顯示Cu-Al(111)表面上的氧化鋁薄膜的反相疇界數(shù)目相對較少;在NiAl(110)表面形成了雙層氧化鋁薄膜,而在Cu-Al(111)表面形成的是單層的氧化鋁薄膜;厚度差異與襯底表面鋁的含量及生長條件有關(guān)。