Cr,Al顆粒尺寸對(duì)Ni-Cr-Al復(fù)合鍍層氧化行為的影響

編號(hào)：NMJS02984

篇名：Cr,Al顆粒尺寸對(duì)Ni-Cr-Al復(fù)合鍍層氧化行為的影響

作者：楊秀英； 趙艷紅； 彭曉； 王福會(huì)；

關(guān)鍵詞：電沉積； Ni-Cr-Al； 納米復(fù)合鍍層； 顆粒尺寸效應(yīng)； 氧化；

機(jī)構(gòu)： 沈陽(yáng)理工大學(xué)應(yīng)用技術(shù)學(xué)院； 中國(guó)科學(xué)院金屬研究所金屬腐蝕與防護(hù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室；

摘要： 分別用納米顆粒Cr（平均尺寸62 nm）,Al（平均尺寸85nm）和微米顆粒Cr和Al（平均尺寸3μm）復(fù)合電沉積制備Ni-11Cr-3Al納米復(fù)合鍍層（ENC）和Ni-11Cr-7Al微米復(fù)國(guó)鍍層（EMC）。納米顆粒的復(fù)合使ENC Ni-11Cr-3Al比EMC Ni-11Cr-7Al的顆粒分布更加均勻,顆粒間距減小近25倍。900℃,24h恒溫氧化實(shí)驗(yàn)表明,ENC Ni-11Cr-3Al與EMC Ni-11Cr-7Al相比氧化速率顯著降低。這是由于其快速形成一層連續(xù)、致密的Cr2O3膜,進(jìn)而促進(jìn)其下Al2O3膜的快速形成所致。