納米Pd-Ga/PMMA復合體系界面的有序結(jié)構(gòu)

編號：NMJS02692

篇名：納米Pd-Ga/PMMA復合體系界面的有序結(jié)構(gòu)

作者：徐國財； 戴明虎； 張曉梅； 高圣濤； 邢宏龍；

關(guān)鍵詞：復合材料； 納米鈀鎵； 聚甲基丙烯酸甲酯； 超聲； 界面結(jié)構(gòu)； 納米復合物；

機構(gòu)： 安徽理工大學化學工程學院；

摘要： 在不使用引發(fā)劑和還原劑條件下,用超聲輻射工藝雙原位合成了納米鈀鎵/聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）復合物。XRD和UV-Vis顯示,超聲還原生成的單質(zhì)鈀和超聲粉碎的單質(zhì)鎵在PMMA基體中不是簡單的物理分散,而是在生成鈀鎵合金Ga5Pd/PMMA復合物的同時既有納米鈀又有納米鎵與PMMA形成復合物;XPS表明,鎵失去了部分外層電子,一部分流向鈀生成合金Ga5Pd;一部分與聚合物酯基中的氧配位產(chǎn)生相互作用。TEM結(jié)果表明,正是由于納米金屬與聚合物之間的相互作用,在相界面處PMMA形成了各向異性有序結(jié)構(gòu)。