納米晶體Ti表面磁控濺射SiC薄膜的干摩擦學(xué)性能

編號：NMJS02685

篇名：納米晶體Ti表面磁控濺射SiC薄膜的干摩擦學(xué)性能

作者：許曉靜； 郝欣妮； 陸樹顯； 卓劉成； 夏登福；

關(guān)鍵詞：納米晶體鈦基材； 薄膜； 摩擦磨損； 磁控濺射；

機(jī)構(gòu)： 江蘇大學(xué)；

摘要： 采用室溫磁控濺射技術(shù)在納米晶體鈦(劇烈塑性變形制備)表面制備出碳化硅(SiC)薄膜,研究SiC薄膜的組織結(jié)構(gòu)、納米壓痕行為和摩擦磨損性能。結(jié)果表明:SiC薄膜具有納米尺度"疇"特征的表面形貌、高含量Si-C鍵、與基材間具有明顯且呈梯度的元素擴(kuò)散、低的納米硬度(10.62GPa)、低的彈性模量(83.34GPa)和高的硬模比(0.128)。在1.96N載荷、氮化硅球(半徑為2mm)為對摩件、室溫空氣條件下,其磨損速率為10-5mm3.m-1.N-1級、摩擦系數(shù)約為0.162,磨損后薄膜不出現(xiàn)裂紋和剝落。