Ni-SiO_2納米微粒復(fù)合鍍層的電沉積及其耐蝕性研究

編號(hào)：NMJS02666

篇名：Ni-SiO_2納米微粒復(fù)合鍍層的電沉積及其耐蝕性研究

作者：卜路霞； 石軍； 朱華玲； 尉震；

關(guān)鍵詞：Ni-SiO2納米微粒復(fù)合鍍層； 電沉積； 耐蝕性； 制備；

機(jī)構(gòu)： 天津農(nóng)學(xué)院基礎(chǔ)科學(xué)系；

摘要： 采用控電流電沉積技術(shù)以銅為基體制備了Ni-SiO2納米微粒復(fù)合鍍層。通過改變鍍液中SiO2納米微粒的質(zhì)量濃度,考察了其對(duì)鍍層中SiO2微粒的質(zhì)量分?jǐn)?shù)、電沉積速率及鍍層耐蝕性能的影響,對(duì)純鎳鍍層與Ni-SiO2納米微粒復(fù)合鍍層的耐蝕性進(jìn)行了比較。研究了陰極電流密度對(duì)復(fù)合鍍層耐蝕性能的影響,并采用掃描電子顯微鏡對(duì)鍍層形貌進(jìn)行了分析。結(jié)果表明,通過改變?chǔ)?SiO2),可以調(diào)節(jié)Ni-SiO2復(fù)合鍍層的組成、電沉積速率和耐蝕性能。當(dāng)ρ(SiO2)為10～15g/L且電流密度為1A/dm2時(shí),復(fù)合鍍層具有較好的耐蝕性能。相對(duì)于純鎳鍍層,Ni-SiO2納米微粒復(fù)合鍍層具有更好的耐蝕性,其表面更致密、平整。