CuO/ZnO量子點(diǎn)異質(zhì)結(jié)及同軸納米線(xiàn)異質(zhì)結(jié)構(gòu)的研制

編號(hào)：NMJS02576

篇名：CuO/ZnO量子點(diǎn)異質(zhì)結(jié)及同軸納米線(xiàn)異質(zhì)結(jié)構(gòu)的研制

作者：馬利明； 李金釵；

關(guān)鍵詞：CuO/ZnO； 量子點(diǎn)異質(zhì)結(jié)； 同軸納米線(xiàn)異質(zhì)結(jié)構(gòu)；

機(jī)構(gòu)： 武漢大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院；

摘要： 采用離子束濺射技術(shù)和熱氧化工藝,對(duì)預(yù)先制備的ZnO納米線(xiàn)表面進(jìn)行納米CuO修飾,研究了不同濺射工藝條件下對(duì)形成的CuO/ZnO納米線(xiàn)異質(zhì)結(jié)構(gòu)的影響,通過(guò)控制濺射參數(shù)成功地合成出不同CuO量子點(diǎn)尺寸和分布密度的CuO/ZnO量子點(diǎn)異質(zhì)結(jié)和CuO為殼層的CuO/ZnO同軸納米線(xiàn)異質(zhì)結(jié)構(gòu).將X射線(xiàn)衍射儀(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)用于研究樣品的結(jié)構(gòu)和形貌.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,濺射在ZnO納米線(xiàn)表面的Cu膜的厚度對(duì)形成的CuO/ZnO異質(zhì)結(jié)構(gòu)起著重要的作用.在Cu膜適度較薄時(shí),獲得了直徑僅5 nm、分布較均勻的高密度(2.05×1010mm-2)CuO/ZnO量子點(diǎn)異質(zhì)結(jié);而Cu膜較厚時(shí),形成的是CuO/ZnO同軸納米線(xiàn)異質(zhì)結(jié)構(gòu).利用高分辨透射電子顯微鏡(HRTEM)進(jìn)一步對(duì)量子點(diǎn)異質(zhì)結(jié)和同軸納米線(xiàn)異質(zhì)結(jié)的界面晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究.