離子注鑭對(duì)鎳氧化膜生長(zhǎng)及其膜內(nèi)應(yīng)力的影響

編號(hào)：FTJS02558

篇名：離子注鑭對(duì)鎳氧化膜生長(zhǎng)及其膜內(nèi)應(yīng)力的影響

作者：陳計(jì)濤； 靳惠明； 龔海華； 高吉成； 張?bào)K群； 李露；

關(guān)鍵詞：鎳； 氧化膜； 離子注入； 次級(jí)離子質(zhì)譜； 拉曼光譜； 稀土元素； 應(yīng)力；

機(jī)構(gòu)： 揚(yáng)州大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院；

摘要： 對(duì)純鎳及其表面離子注鑭樣品在900℃空氣中的恒溫氧化規(guī)律進(jìn)行研究.用掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)對(duì)NiO膜的微觀形貌和結(jié)構(gòu)進(jìn)行測(cè)試.用激光拉曼(Raman)光譜儀和X射線衍射儀(XRD)對(duì)2種樣品表面氧化膜的應(yīng)力狀態(tài)進(jìn)行測(cè)量.用次級(jí)離子質(zhì)譜儀(SIMS)對(duì)氧化膜內(nèi)元素Ni、O和La的深度分布情況進(jìn)行測(cè)量.結(jié)果表明:離子注鑭顯著降低了鎳的恒溫氧化速率,細(xì)化了表面NiO膜的晶粒尺寸;同時(shí)將氧化膜的生長(zhǎng)由注鑭前Ni2+陽(yáng)離子的向外擴(kuò)散轉(zhuǎn)變?yōu)樽㈣|后O2-陰離子的向內(nèi)擴(kuò)散為主.X射線衍射和激光拉曼光譜測(cè)量均反映出注鑭引起的膜內(nèi)應(yīng)力降低效應(yīng),并且結(jié)合氧化膜內(nèi)應(yīng)力深度分布的不均勻性及膜生長(zhǎng)過(guò)程中存在的稀土元素效應(yīng),對(duì)2種應(yīng)力測(cè)量結(jié)果之間存在的偏差進(jìn)行了細(xì)致分析.