二氧化硅溶膠的制備及其對(duì)硬盤基板NiP的拋光速率研究

編號(hào)：NMJS02447

篇名：二氧化硅溶膠的制備及其對(duì)硬盤基板NiP的拋光速率研究

作者：孫濤；

關(guān)鍵詞：硅溶膠； 磨料； 硬盤； 化學(xué)機(jī)械拋光； 去除速率；

機(jī)構(gòu)： 天津工業(yè)大學(xué)環(huán)境與化學(xué)工程學(xué)院；

摘要： 離子交換法制備了不同粒徑的納米二氧化硅溶膠,采用TEM、DLS等手段對(duì)磨料進(jìn)行了表征,并以二氧化硅溶膠作為磨料對(duì)存儲(chǔ)器硬盤基板NiP進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光實(shí)驗(yàn),考察了磨料粒徑和數(shù)量等因素對(duì)存儲(chǔ)器硬盤基板NiP的拋光去除速率的影響。