編號(hào):NMJS02443
篇名:量子點(diǎn)的聚合物表面修飾及其應(yīng)用
作者:來(lái)守軍; 關(guān)曉琳;
關(guān)鍵詞:量子點(diǎn); 聚合物; 修飾;
機(jī)構(gòu): 重慶三峽學(xué)院化學(xué)與環(huán)境工程學(xué)院;
摘要: 量子點(diǎn)作為新型納米發(fā)光材料備受關(guān)注,但由于光學(xué)穩(wěn)定性和生物相容性的問(wèn)題而在實(shí)際應(yīng)用上受限。聚合物對(duì)量子點(diǎn)的修飾能夠提供量子點(diǎn)合成的有效支撐基質(zhì),而且還可以改善量子點(diǎn)的穩(wěn)定性和單分散性,進(jìn)而可以拓展量子點(diǎn)應(yīng)用于化學(xué)、物理以及生物學(xué)領(lǐng)域;诰酆衔镄揎椓孔狱c(diǎn)的優(yōu)勢(shì),本文簡(jiǎn)述了聚合物表面修飾量子點(diǎn)的方法、合成路線(xiàn)、步驟、特點(diǎn)以及發(fā)展現(xiàn)狀。其中,雙親分子涂敷的量子點(diǎn)可以改善量子點(diǎn)的水溶性;多基配體包裹的量子點(diǎn)更具有穩(wěn)定性和功能性;末端功能化聚合物表面修飾的量子點(diǎn)則可以合成更為先進(jìn)功能的材料;膠封樹(shù)枝狀定域量子點(diǎn)具有單分散和優(yōu)越發(fā)光特性。同時(shí),還綜述了各種表面修飾方法的最新研究進(jìn)展,存在問(wèn)題以及應(yīng)用發(fā)展趨勢(shì)。